ASML
EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー。極紫外光リソグラフィ技術でムーアの法則を延命させ、5nm以下の先端プロセスに不可欠。
企業の強み
- ✓EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー
- ✓High-NA EUVで8nmの解像度を実現
- ✓5nm以下の先端プロセスに不可欠な技術
主要製品
EUV露光装置
- TWINSCAN NXE
- TWINSCAN EXE (High-NA)
DUV露光装置
- TWINSCAN DUVシリーズ
EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー。極紫外光リソグラフィ技術でムーアの法則を延命させ、5nm以下の先端プロセスに不可欠。