当サイトでの位置づけ
露光カテゴリでは EUV および DUV ラインを核とし、微細化ロードマップの中で「露光装置の供給構造」自体を象徴する代表企業として扱われます。
企業の強み
EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー
High-NA EUVで8nmの解像度を実現
5nm以下の先端プロセスに不可欠な技術
主要製品・ソリューション
EUV露光装置
- •TWINSCAN NXE
- •TWINSCAN EXE (High-NA)
DUV露光装置
- •TWINSCAN DUVシリーズ
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📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ASMLを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
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