当サイトでの位置づけ
露光カテゴリでは EUV および DUV ラインを核とし、微細化ロードマップの中で「露光装置の供給構造」自体を象徴する代表企業として扱われます。
企業の強み
EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー
High-NA EUVで8nmの解像度を実現
5nm以下の先端プロセスに不可欠な技術
主要製品・ソリューション
EUV露光装置
- •TWINSCAN NXE
- •TWINSCAN EXE (High-NA)
DUV露光装置
- •TWINSCAN DUVシリーズ
ASMLの製品
TWINSCAN NXE:3600D（EUV露光装置）TWINSCAN NXT:2100i（DUV露光装置）TWINSCAN EXE:5000（EUV露光装置）TWINSCAN EXE:5200B（EUV露光装置）TWINSCAN NXE:3800E（EUV露光装置）TWINSCAN NXE:3400C（EUV露光装置）TWINSCAN NXT:2150i（DUV露光装置）TWINSCAN NXT:2050i（DUV露光装置）TWINSCAN NXT:2000i（DUV露光装置）TWINSCAN NXT:1980Fi（DUV露光装置）TWINSCAN NXT:1470（DUV露光装置）TWINSCAN XT:1460K（DUV露光装置）TWINSCAN XT:1060K（DUV露光装置）TWINSCAN NXT:870B（DUV露光装置）TWINSCAN NXT:870（DUV露光装置）TWINSCAN XT:860N（DUV露光装置）TWINSCAN XT:860M（DUV露光装置）TWINSCAN XT:400M（i線ステッパー）TWINSCAN XT:260（i線ステッパー）YieldStar 1390（オーバーレイ計測装置）YieldStar 1385（オーバーレイ計測装置）YieldStar 500（オーバーレイ計測装置）HMI eScan 1100（電子線（EB）検査装置）HMI eScan 600（電子線（EB）検査装置）HMI eP5（電子線（EB）検査装置）
関連装置カテゴリ
半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ASMLを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
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