露光装置メーカー6社Lithography Equipment
露光装置（リソグラフィ装置）は、マスク（レチクル）に描かれた回路パターンをウェハ上のフォトレジストに光を用いて転写する装置群です。半導体製造の中核工程を担い、パターンの微細化レベルが最終製品の性能・集積度を直接決定します。使用する光源の波長によってi線（365nm）、DUV（248nm/193nm）、EUV（13.5nm）に分類され、波長が短いほど微細なパターン形成が可能になります。先端プロセス（7nm以下）ではEUV露光が不可欠となり、装置単価は数百億円に達します。露光精度（オーバーレイ・解像度・焦点深度）が製造歩留まりと設計自由度を左右するため、成膜・エッチング装置と連携した総合的なプロセス最適化が求められます。計測装置によるフィードバック制御により、ナノメートル以下の位置精度を維持します。
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ベーク・UVキュア装置は、塗布した膜を加熱または紫外線照射によって硬化・安定化させる装置です。
メーカー 5 社コータ／デベロッパコーター/デベロッパ（Coater/Developer）は、フォトリソグラフィ工程でレジスト塗布（コーティング）と露光後の現像（デベロップ）を行う一体型装置です。
メーカー 7 社DUV露光装置DUV露光装置（Deep Ultraviolet Lithography）は、ArFエキシマレーザー（193nm）またはKrFエキシマレーザー（248nm）を光源とした露光装置です。
メーカー 5 社電子ビーム直接描画装置電子ビーム直接描画装置は、マスクを使わず電子ビームでウェハへ直接パターンを描く露光装置です。
メーカー 4 社EUV露光装置EUV露光装置（Extreme Ultraviolet Lithography）は、波長13.5nmの極端紫外線を使用してウェハ上に超微細回路パターンを転写する露光装置です。
メーカー 2 社i線ステッパーi線ステッパー（i-line Stepper）は、水銀ランプのi線（波長365nm）を光源とする露光装置で、0.18μm以上の成熟ノードの半導体製造に現在も広く使用されています。
メーカー 5 社レーザー直接描画装置レーザー直接描画装置（LDI／マスクレス露光装置）は、マスクを介さずレーザー光を走査してパターンを描く露光装置です。
メーカー 5 社マスクアライナーマスクアライナーは、マスクとウェハを直接向かい合わせ、等倍でパターンを一括転写する露光装置です。
メーカー 3 社ナノインプリントリソグラフィ（NIL）ナノインプリントリソグラフィ（NIL：Nanoimprint Lithography）は、マスク（テンプレート）のナノ構造パターンを紫外線硬化樹脂などの材料に直接押し付けてパターンを転写するリソグラフィ技術です。
メーカー 3 社重要ポイント
メーカー
6社の主要メーカー
EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー。極紫外光リソグラフィ技術でムーアの法則を延命させ、5nm以下の先端プロセスに不可欠。
- •EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー
- •High-NA EUVで8nmの解像度を実現
- •5nm以下の先端プロセスに不可欠な技術
DUVスキャナーおよびi線ステッパーの主要メーカー。高解像度光学技術とウェーハステージ技術に強みを持ち、成熟プロセス向けや再生装置市場で存在感を発揮。
- •i線ステッパー・DUVスキャナーの長年の製造実績
- •光学系・精密ステージ技術における技術的優位
- •成熟プロセス・パワー半導体・MEMS向け需要で安定したポジション
i線・KrFステッパーを長年供給する露光装置メーカー。近年はナノインプリント・リソグラフィ（NIL）を量産化し、EUVに代わる新たな微細化ルートとして注目される。
- •i線・KrFステッパーの世界的プレーヤー
- •ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）の商用化で先行
- •成熟ノード・パワー半導体・MEMS向けの安定供給力
半導体露光用エキシマレーザー光源の大手メーカー。ArF・KrFレーザーでASML・ニコン・キヤノンの露光装置に光源を供給。小松製作所と旭硝子（AGC）の合弁会社。
- •ArF（193nm）・KrFエキシマレーザー光源で世界シェア上位
- •Cymer（Applied Materials傘下）と並ぶ二大光源メーカーの一角
- •高繰り返し・高出力・長寿命レーザー技術で露光装置の安定稼働を支援
ASMLのEUV光学系を独占供給するドイツの精密光学メーカー。EUVリソグラフィ用投影レンズ・照明光学系・ウェーハ検査用電子顕微鏡（ORION）も展開。
- •EUV露光装置用投影光学系をASMLに独占供給（戦略的不可欠パートナー）
- •半導体計測用FIB-SEMシステム（Crossbeam）で業界標準機
- •170年超の精密光学ノウハウを半導体・医療・産業に展開
産業用・半導体製造向け光源装置の日本大手。UV・DUV露光光源、ランプ式露光装置、UV硬化システムを手がける光技術の総合メーカー。
- •半導体露光用水銀ランプ・エキシマランプで国内トップ
- •UV硬化・表面処理向け光源の幅広いラインナップ
- •Christie Digital買収によるプロジェクタ・映像事業も展開
関連する装置カテゴリ
前工程装置は、半導体製造プロセスにおいてウェハ上に回路パターンを形成する工程で使用される装置群です。
メーカー 9 社エッチング装置エッチング装置は、ウェハ上の薄膜から不要な部分を除去し、微細な回路パターンを形成する前工程の中核装置です。
メーカー 7 社計測装置計測装置は、ウェハ製造プロセスにおけるパターン寸法・膜厚・オーバレイ（位置ずれ）などの数値を精密に測定する装置群です。
メーカー 8 社成膜装置成膜装置は、ウェハ表面に絶縁膜、導電膜、半導体膜などの薄膜を数百ナノメートルから原子レベルの厚さで形成する前工程の重要装置です。
メーカー 9 社材料半導体材料は、製造プロセスの各工程で使用される化学物質・消耗材料の総称です。
メーカー 12 社製造プロセス半導体製造プロセスは、シリコンウェハ上に微細な回路を形成する一連の工程と、その技術ノード（2nm・3nm・5nmなど）の組み合わせを指します。
メーカー 12 社