露光装置メーカー6社Lithography Equipment

EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー。極紫外光リソグラフィ技術でムーアの法則を延命させ、5nm以下の先端プロセスに不可欠。

• •EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー
• •High-NA EUVで8nmの解像度を実現
• •5nm以下の先端プロセスに不可欠な技術

DUVスキャナーおよびi線ステッパーの主要メーカー。高解像度光学技術とウェーハステージ技術に強みを持ち、成熟プロセス向けや再生装置市場で存在感を発揮。

• •i線ステッパー・DUVスキャナーの長年の製造実績
• •光学系・精密ステージ技術における技術的優位
• •成熟プロセス・パワー半導体・MEMS向け需要で安定したポジション

i線・KrFステッパーを長年供給する露光装置メーカー。近年はナノインプリント・リソグラフィ（NIL）を量産化し、EUVに代わる新たな微細化ルートとして注目される。

• •i線・KrFステッパーの世界的プレーヤー
• •ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）の商用化で先行
• •成熟ノード・パワー半導体・MEMS向けの安定供給力

半導体露光用エキシマレーザー光源の大手メーカー。ArF・KrFレーザーでASML・ニコン・キヤノンの露光装置に光源を供給。小松製作所と旭硝子（AGC）の合弁会社。

• •ArF（193nm）・KrFエキシマレーザー光源で世界シェア上位
• •Cymer（Applied Materials傘下）と並ぶ二大光源メーカーの一角
• •高繰り返し・高出力・長寿命レーザー技術で露光装置の安定稼働を支援

ASMLのEUV光学系を独占供給するドイツの精密光学メーカー。EUVリソグラフィ用投影レンズ・照明光学系・ウェーハ検査用電子顕微鏡（ORION）も展開。

• •EUV露光装置用投影光学系をASMLに独占供給（戦略的不可欠パートナー）
• •半導体計測用FIB-SEMシステム（Crossbeam）で業界標準機
• •170年超の精密光学ノウハウを半導体・医療・産業に展開

産業用・半導体製造向け光源装置の日本大手。UV・DUV露光光源、ランプ式露光装置、UV硬化システムを手がける光技術の総合メーカー。

• •半導体露光用水銀ランプ・エキシマランプで国内トップ
• •UV硬化・表面処理向け光源の幅広いラインナップ
• •Christie Digital買収によるプロジェクタ・映像事業も展開