DUV（深紫外線）露光装置は、248nm（KrFエキシマレーザー）または193nm（ArFエキシマレーザー）の深紫外線を光源とする露光装置です。現在でも半導体製造の主力装置として広く使用されており、特に成熟プロセスノードから先端プロセスの一部工程まで、幅広い用途で活躍しています。
DUV露光装置には、ドライ露光とArF液浸露光の2種類があります。ArF液浸露光は、レンズとウェハの間に純水を満たすことで実効的な波長を短縮し、より微細なパターン形成を可能にします。これにより、40nm～7nmノードまでのプロセスに対応できます。ただし、最先端の7nm以下のノードでは、マルチパターニング技術を併用する必要があり、工程が複雑化します。
DUV露光装置は、EUV露光装置と比較して装置価格が低く、技術的成熟度が高いため、多くのファブで継続的に使用されています。ASMLの他、Nikonやキヤノンもサプライヤーとして知られています。