検査装置は、半導体製造プロセスにおいて、ウェハやマスク上の欠陥、パーティクル、パターン異常などを検出するための装置です。半導体デバイスの微細化と高集積化が進む中、製造工程での欠陥管理は歩留まり向上とコスト削減のために極めて重要であり、検査装置の役割は不可欠となっています。
主な検査装置として、ウェハ検査装置、マスク検査装置、欠陥検査装置、パターン検査装置などがあります。これらの装置は、光学式、電子線式、X線式など、様々な検査原理を用いています。特に光学式検査装置は、高速かつ広範囲の検査が可能で、製造ライン上でのインライン検査に広く使用されています。一方、電子線式検査装置は、より微細な欠陥検出が可能で、先端プロセスの開発段階で重要な役割を果たします。
先端半導体製造では、数ナノメートルレベルの微小欠陥も検出する必要があるため、検査装置の技術革新が続いています。KLA、Applied Materials、日立ハイテクなどが主要なサプライヤーとして、高感度・高分解能の検査装置を提供しています。