検査装置メーカー9社Inspection Equipment

検査装置は、ウェハ製造プロセスの各工程で発生する欠陥を検出し、歩留まり向上と品質保証を実現する装置群です。パターン欠陥検査・マスク検査・ウェハ表面検査など、工程の種類に応じた専用装置が使用されます。微細化が進むほど検出すべき欠陥サイズも小さくなり、ナノメートルレベルの欠陥を高速かつ高精度に見つける技術が求められます。検査装置は「問題の早期発見」により製造コストを削減し、不良品の流出を防ぐ重要な役割を果たします。計測装置(Metrology)が「寸法・膜厚などの数値を測る」のに対し、検査装置は「欠陥の有無を判定する」ことに特化しています。両者は相補的な関係にあり、製造プロセスの品質管理に不可欠です。

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結晶欠陥検査装置

結晶欠陥検査装置は、シリコンやSiCの基板・エピ層に含まれるCOP・転位・積層欠陥・BPD(基底面転位)といった結晶起因の欠陥を検出する装置です。

メーカー 5 社
欠陥検査装置

欠陥検査装置(Defect Inspection)は、ウェハ表面や内部に存在するパターン欠陥・パーティクル・スクラッチなどを光学または電子線で自動検出するシステムです。

メーカー 3 社
電子線(EB)検査装置

電子線(EB)検査装置は、電子ビームを用いてウェーハ上のパターン欠陥・電気的欠陥を高分解能で検出する装置です。

メーカー 6 社
マクロ検査装置

マクロ検査装置は、ウェハ全面を低倍率で一括撮像し、レジストのコート不良・現像ムラ・スクラッチ・チッピング・ウェハエッジの異常など、比較的大きな外観不良を高速に検出する装置です。

メーカー 5 社
マスク検査装置

マスク検査装置(Mask Inspection)は、フォトリソグラフィで使用するフォトマスク・レチクルの欠陥・汚染を検出するシステムです。

メーカー 6 社
光学式ウェーハ検査装置

光学式ウェーハ検査装置は、レーザーや白色光を用いてウェーハ表面の異物・スクラッチ・結晶欠陥などを高速で検出する装置です。

メーカー 8 社
異物・パーティクル検査装置

異物・パーティクル検査装置は、ウェハ表面に付着した微粒子や傷をレーザー散乱光で検出し、サイズと座標をマップとして出力する装置です。

メーカー 4 社
レビューSEM

レビューSEMは、欠陥検査装置が出力した欠陥座標へ自動で移動し、個々の欠陥を高分解能のSEM像で分類する装置です。

メーカー 4 社
膜厚計測装置

膜厚計測装置(Thickness Metrology)は、ウェハ上に形成された薄膜の厚さや光学特性を非破壊で精密測定するシステムです。

メーカー 7 社
ウェハ検査装置

ウェハ検査装置(Wafer Inspection)は、ウェハ表面のパーティクル・欠陥・パターン異常を自動検出するシステムです。

メーカー 5 社

重要ポイント

ウェハ製造プロセスの各工程で発生する欠陥を検出(歩留まり向上・品質保証)
ナノメートルレベルの欠陥を高速かつ高精度に検出
問題の早期発見により製造コストを削減し不良品流出を防止
計測装置と相補的な関係(検査は欠陥有無判定、計測は数値測定)

メーカー

9社の主要メーカー

KLA米国

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

検査装置
ウェーハ検査システムマスク検査装置
計測装置
CD計測膜厚計測オーバーレイ計測
データ分析
aiSIGHTKlarity
  • •検査・計測装置における世界的リーダー
  • •AI・データ分析を統合した先端プロセスコントロール
会社詳細
Onto Innovation米国

Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。

ウェハ検査装置
Dragonfly G3
膜厚・オーバーレイ計測
Atlas VFirefly
  • •光学ウェハ検査・膜厚計測で世界有数のポジション
  • •先端パッケージング(FO-WLP・HBM)向け計測ソリューション
会社詳細
日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

検査・計測装置
CD-SEMウェハ検査装置マスク検査装置膜厚計測装置
加工装置
プラズマエッチング装置
分析装置
走査電子顕微鏡(SEM)透過電子顕微鏡(TEM)
  • •CD-SEM(測長SEM)で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
  • •2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供
会社詳細
Camtekイスラエル

イスラエル拠点の光学検査装置(AOI)メーカー。先端パッケージング(HBM・FO-WLP)、バンプ検査、2.5D/3D 実装の品質管理で急成長。

光学検査装置
EagleHawk
  • •先端パッケージング AOI で世界的なポジション
  • •HBM・FO-WLP・チップレット向けバンプ検査に強み
会社詳細
レーザーテック日本

EUVマスク欠陥検査装置で世界唯一のサプライヤー。半導体・FPD向け検査・計測装置の専業メーカーとして、マスク検査(MATRICS/MAGICS)・ウェーハ検査・膜厚計測装置を展開。

EUVマスク検査
MATRICS(EUVマスク欠陥検査)MAGICS(マスクブランクス検査)
ウェーハ検査
光学式ウェーハ表面検査装置ベアウェーハ検査装置
計測
膜厚計測装置3D形状計測装置
  • •EUVマスク欠陥検査装置(MATRICS)で世界シェア100%の独占供給
  • •ArF/EUV向けマスクブランクス検査(MAGICS)でも業界標準機を提供
会社詳細
カールツァイス(半導体)ドイツ

ASMLのEUV光学系を独占供給するドイツの精密光学メーカー。EUVリソグラフィ用投影レンズ・照明光学系・ウェーハ検査用電子顕微鏡(ORION)も展開。

EUV光学系
EUV投影レンズ(ASML向け)EUV照明光学系
検査・計測
ORION(イオン顕微鏡)Crossbeam(FIB-SEM)
  • •EUV露光装置用投影光学系をASMLに独占供給(戦略的不可欠パートナー)
  • •半導体計測用FIB-SEMシステム(Crossbeam)で業界標準機
会社詳細
ブルカー(Bruker)ドイツ

科学計測機器・半導体計測装置の世界的メーカー。AFM(原子間力顕微鏡)・X線計測・電子顕微鏡を半導体製造の計測・品質管理に提供。

AFM
Dimension Icon(最先端AFM)Innova(産業用AFM)
X線計測
D8 DISCOVER(XRD)JVX 7300(X線反射率)
  • •半導体向けAFM(原子間力顕微鏡)で世界最大手。ナノスケール形状計測に必須
  • •X線回折(XRD)・X線反射率(XRR)による非破壊膜厚・結晶品質計測
会社詳細
アルバック・ファイ日本

アルバックと米PHIの合弁による表面分析装置メーカー。XPS(ESCA)、TOF-SIMS、走査型オージェ電子分光装置などを供給し、汚染元素の同定や薄膜の深さ方向分析に使われる。

表面分析装置
XPS(ESCA)TOF-SIMS走査型オージェ電子分光装置
  • •XPS・SIMS・オージェを揃えた表面分析ラインナップ
  • •深さ方向の元素分布分析に対応
会社詳細
日本分光(JASCO)日本

分光分析装置の国内メーカー。FTIR(赤外分光)、ラマン分光装置、紫外可視分光光度計などを供給し、薄膜の組成評価や有機汚染の同定といった分析用途に使われる。

分光分析装置
FTIR(赤外分光光度計)ラマン分光装置紫外可視分光光度計
  • •FTIR・ラマンなど分光分析の総合ラインナップ
  • •国内開発・製造による装置の作り込み
会社詳細

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