SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

CD-SEMメーカー3社

CD-SEMは、線幅（CD）など微細寸法を高精度に計測するための電子顕微鏡計測装置です。プロセス条件の最適化や工程管理に用いられます。

メーカー 3 社関連カテゴリ 1 件

主要特徴

1nm以下の線幅（CD）をSEM画像から非破壊・高精度で計測

リソグラフィとエッチング後のインライン品質管理に使用

自動プロセス制御（APC）へのフィードバックデータを提供

EUVリソグラフィ工程では計測精度・スループットの要求がさらに高まる

AI画像解析との統合で計測精度向上と検査時間短縮を両立

よくある質問

CD-SEMはどのくらいの精度で計測できますか？▾

最先端のCD-SEMは0.1nm以下の繰り返し精度（3σ）を実現しており、2nm以下の先端ロジックプロセスの品質管理に対応しています。ただし電子線によるダメージ（e-beam damage）の低減も重要な設計課題です。

主要メーカーはどこですか？▾

日立ハイテク（日）とApplied Materials（米）が世界市場の大部分を占めます。KLA（米）もプロセス制御ソリューションとしてCD計測製品を持ちます。

メーカー

3社の主要メーカー

KLA米国

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

検査装置

ウェーハ検査システムマスク検査装置

計測装置

CD計測膜厚計測オーバーレイ計測

データ分析

aiSIGHTKlarity

•検査・計測装置における世界的リーダー
•AI・データ分析を統合した先端プロセスコントロール

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日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

検査・計測装置

CD-SEMウェハ検査装置マスク検査装置膜厚計測装置

加工装置

プラズマエッチング装置

分析装置

走査電子顕微鏡（SEM）透過電子顕微鏡（TEM）

•CD-SEM（測長SEM）で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
•2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供

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ホロン日本

電子ビーム応用装置のメーカー。フォトマスクの欠陥レビューSEMやマスク欠陥修正装置、測長SEMなどを供給し、マスク製造の品質保証工程を支える。

マスク検査・修正

マスク欠陥レビューSEMマスク欠陥修正装置

計測装置

測長SEM（CD-SEM）

•電子ビーム光学系の自社設計
•マスク欠陥のレビューと修正を担う装置群

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比較・違いを学ぶ

電子ビーム検査と光学検査の違い（欠陥検査方式の比較）

電子ビーム検査（E-beam Inspection）は電子ビームでウェハを走査し二次電子・反射電子像から欠陥を検出する方式で、数nm級の微小欠陥や配線のオープン…

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