DUV露光装置
DUV露光装置は、248nm（KrFエキシマレーザー）または193nm（ArFエキシマレーザー）の深紫外線を光源とする露光装置です。ArF液浸露光により40nm～7nmノードまで対応可能で、マルチパターニング技術と組み合わせることで先端プロセスにも使用されます。EUV露光装置と比較して装置価格が低く技術的成熟度が高いため、成熟ノードから先端ノードの一部工程まで、現在でも半導体製造の主力装置として幅広く活躍しています。
主要特徴
- •KrF（248nm）とArF（193nm）の2種類の光源を使い分け
- •ArF液浸露光で40nm～7nmノードに対応（マルチパターニング併用）
- •EUVと比較して装置価格が低く技術的成熟度が高い
- •成熟ノードから先端ノードの一部工程まで幅広く対応
- •半導体製造の主力装置として現在も高いシェアを維持
よくある質問
DUV露光装置とは何ですか？
DUV（深紫外線）露光装置は、KrF（248nm）またはArF（193nm）エキシマレーザーを光源とする露光装置です。成熟ノードから先端ノードの一部工程まで幅広い半導体製造に使用されています。
DUV露光装置のメーカーはどこですか？
DUV露光装置の主なメーカーはASML（オランダ）、ニコン（日本）、キヤノン（日本）です。ArF液浸露光装置はASMLが高いシェアを持ちます。
DUV露光装置はEUV露光装置と使い分けますか？
はい。EUVが必要な7nm以下のクリティカル層ではEUVを使用し、DUVは成熟ノード全体および先端ノードの非クリティカル層（補助配線・コンタクト層など）に引き続き大量に使用されます。
関連用語（用語集）
定義・用語の概要は用語集で解説しています。