DUV露光装置
DUV露光装置は、248nm（KrFエキシマレーザー）または193nm（ArFエキシマレーザー）の深紫外線を光源とする露光装置です。ArF液浸露光により40nm～7nmノードまで対応可能で、マルチパターニング技術と組み合わせることで先端プロセスにも使用されます。EUV露光装置と比較して装置価格が低く技術的成熟度が高いため、成熟ノードから先端ノードの一部工程まで、現在でも半導体製造の主力装置として幅広く活躍しています。
主要特徴
- •KrF（248nm）とArF（193nm）の2種類の光源を使い分け
- •ArF液浸露光で40nm～7nmノードに対応（マルチパターニング併用）
- •EUVと比較して装置価格が低く技術的成熟度が高い
- •成熟ノードから先端ノードの一部工程まで幅広く対応
- •半導体製造の主力装置として現在も高いシェアを維持
関連用語（用語集）
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