EUV露光装置

EUV露光装置は、波長13.5nmの極端紫外線を光源として用いる最先端の露光装置です。7nm以下の先端プロセスノードにおいて、従来のArF液浸露光では達成困難な微細パターンを単一露光で形成できるため、製造工程の簡素化とコスト削減を実現します。真空環境と反射光学系を必要とし、1台あたり数百億円という極めて高価な装置ですが、3nm・2nm世代の量産には不可欠です。ASMLが唯一の量産サプライヤーとして市場を支配しています。