SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

ウェット洗浄装置メーカー3社

ウェット洗浄は、薬液を用いてパーティクルや有機物、金属汚染などを除去する洗浄方式です。前工程の多くのステップで広く利用されます。

メーカー 3 社関連カテゴリ 3 件

主要特徴

SC-1・SC-2・HFなど目的別薬液を使い分け

有機物・金属・ネイティブ酸化膜を選択的に除去

前工程の全フォトリソグラフィ間工程に適用

半導体洗浄の最も基本的かつ汎用的な手法

薬液濃度・温度・処理時間の精密管理が必要

代表製品・スペック

製品写真

SCREENホールディングス

SU-3200（ウェット洗浄）

SCREENの標準ウェット洗浄装置。RCA洗浄プロセス（SC1/SC2）に対応し、量産ラインに広く導入されている。

対応ウェハ径	300 mm
処理方式	枚葉式スピン薬液
スループット	最大 60 WPH
主要洗浄プロセス	RCA洗浄（SC1/SC2）・HF洗浄
パーティクル除去	≥0.09μm粒子 99%以上除去

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日立ハイテク

ウェット洗浄装置（HTS シリーズ）

薬液洗浄によるウェハ表面清浄化装置。ゲート絶縁膜形成前の前処理洗浄に使用される。

対応ウェハ径	300 mm
処理方式	枚葉式スピン薬液
対応薬液	SC1・SC2・HF・SPM・オゾン水
金属汚染管理	< 5×10⁹ atoms/cm²
主要用途	前工程一般洗浄・前処理洗浄

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東京エレクトロン（TEL）

CLEAN TRACK Cellesta（ウェット洗浄）

TELの枚葉洗浄システム。純水・薬液の使用量を最適化し、環境負荷低減と高品質洗浄を両立。

対応ウェハ径	300 mm
処理方式	枚葉式スピン薬液
スループット	最大 60 WPH
薬液節約機能	薬液リサイクル機構搭載
主要用途	ゲート前洗浄・CMP後洗浄

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※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

メーカー

3社の主要メーカー

SCREENホールディングス日本

半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。

洗浄装置

ウェーハ洗浄システム

塗布現像装置

コータ/デベロッパ

検査装置

検査システム計測システム

•洗浄装置で世界トップシェア
•表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術

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日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

検査・計測装置

CD-SEMウェハ検査装置マスク検査装置膜厚計測装置

加工装置

プラズマエッチング装置

分析装置

走査電子顕微鏡（SEM）透過電子顕微鏡（TEM）

•CD-SEM（測長SEM）で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
•2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供

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東京エレクトロン（TEL）日本

世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技術を提供。

塗布現像装置

CLEAN TRACK ACTCLEAN TRACK LITHIUS

エッチング装置

TactrasCertas

成膜装置

EpisodeTriase+TELINDY PLUS

•コータ/デベロッパで世界トップクラスのシェア
•塗布、成膜、エッチング装置の総合ラインナップ

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関連カテゴリ

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関連用語

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