ウェット洗浄装置メーカー4社
ウェット洗浄は、薬液を用いてパーティクルや有機物、金属汚染などを除去する洗浄方式です。前工程の多くのステップで広く利用されます。
主要特徴
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | SCREENホールディングスSU-3200（枚葉式洗浄装置） | 東京エレクトロン（TEL）CELLESTA™-i（枚葉洗浄装置） |
|---|---|---|
| 方式 | 枚葉式 | 枚葉式 |
| チャンバー構成 | 12 チャンバー（3段×4タワー） | 最大 20 チャンバー |
| 主な技術 | APAC スーパークリーン技術・DDI 薬液供給 | 薬液リサイクル・物理洗浄・ベベル洗浄・裏面洗浄ユニット |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| スループット | 最大 800 枚／時 | — |
|---|---|---|
| 対応ウェハ径 | — | 300 mm |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
| 方式 | 枚葉式 |
| チャンバー構成 | 12 チャンバー（3段×4タワー） |
| スループット | 最大 800 枚／時 |
| 主な技術 | APAC スーパークリーン技術・DDI 薬液供給 |
| 対応ウェハ径 | 300 mm |
| 方式 | 枚葉式 |
| チャンバー構成 | 最大 20 チャンバー |
| 主な技術 | 薬液リサイクル・物理洗浄・ベベル洗浄・裏面洗浄ユニット |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
4社の主要メーカー
半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。
- •洗浄装置で世界トップシェア
- •表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術
世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。
- •CD-SEM（測長SEM）で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
- •2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供
世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技術を提供。
- •コータ/デベロッパで世界トップクラスのシェア
- •塗布、成膜、エッチング装置の総合ラインナップ
ウェハ湿式洗浄装置の専業メーカー。バッチ式・枚葉式洗浄装置を中心に、半導体前工程の洗浄ニーズに対応する。
- •湿式洗浄装置の専業メーカー
- •バッチ式・枚葉式双方に対応
同じ分野の装置カテゴリ
バッチ洗浄装置（Batch Cleaning）は、複数のウェハを同時に処理する洗浄システムです。
メーカー 3 社ドライ洗浄装置ドライ洗浄（Dry Cleaning）は、プラズマやガスを用いてウェハ表面の汚染を除去する乾式プロセスです。
メーカー 6 社レジスト剥離装置（ウェット）レジスト剥離装置（ウェット）は、露光・エッチング・イオン注入を終えた後に不要となったフォトレジストを薬液で溶解除去する装置です。
メーカー 5 社シングルウェハ洗浄装置枚葉洗浄装置（Single Wafer Cleaning）は、ウェハを1枚ずつ個別に処理する精密洗浄システムです。
メーカー 5 社ウェハ乾燥装置ウェハ乾燥装置は、洗浄後のウェハ表面から液体を除去する装置です。
メーカー 4 社ウェハスクラバウェハスクラバは、PVAブラシや高圧ジェットでウェハ表面を物理的にこすり、付着したパーティクルを剥がし取る洗浄装置です。
メーカー 3 社