ウェット洗浄装置
ウェット洗浄は、薬液を用いてパーティクルや有機物、金属汚染などを除去する洗浄方式です。前工程の多くのステップで広く利用されます。
主要特徴
- •SC-1・SC-2・HFなど目的別薬液を使い分け
- •有機物・金属・ネイティブ酸化膜を選択的に除去
- •前工程の全フォトリソグラフィ間工程に適用
- •半導体洗浄の最も基本的かつ汎用的な手法
- •薬液濃度・温度・処理時間の精密管理が必要
関連用語（用語集）
定義・用語の概要は用語集で解説しています。
ウェット洗浄は、薬液を用いてパーティクルや有機物、金属汚染などを除去する洗浄方式です。前工程の多くのステップで広く利用されます。
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