SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
シングルウェハ洗浄装置メーカー3社
シングルウェハ洗浄装置は、1枚ずつウェハを処理する方式の洗浄装置です。高い洗浄性能とプロセス制御性が求められる工程で使用されます。
メーカー 3 社関連カテゴリ 3 件
主要特徴
1枚ずつ個別処理でクロスコンタミネーションを防止
回転基板へ薬液・超純水・乾燥を順次供給
パーティクル・金属・有機汚染を高精度除去
14nm以下の先端プロセスで主流の洗浄方式
各ウェハへの均一処理と精密薬液制御を実現
代表製品・スペック
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
3社の主要メーカー