SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

バッチ洗浄装置メーカー2社

バッチ洗浄装置は、複数枚のウェハをまとめて処理する洗浄装置です。スループットとコスト効率に優れ、工程に応じて薬液・温度・攪拌条件が最適化されます。

メーカー 2 社関連カテゴリ 3 件

主要特徴

25〜50枚同時処理で高スループットを実現

RCA洗浄プロセス（SC-1・SC-2）を一括処理

成熟ノード・大量生産ラインで広く採用

超音波・メガソニック機能でパーティクル除去向上

装置コストが低く運用の安定性が高い

代表製品・スペック

製品写真

SCREENホールディングス

Zeta（バッチ洗浄）

複数枚ウェハを同時処理するバッチ式洗浄装置。薬液槽と超音波振動を組み合わせた高効率洗浄が特徴。

対応ウェハ径	最大 300 mm
処理方式	バッチ式薬液槽浸漬洗浄
バッチ処理枚数	最大 50 枚／バッチ
超音波周波数	400 kHz ～ 1 MHz
対応薬液	SC1・SC2・HF・オゾン水・DHF

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製品写真

日立ハイテク

バッチ式洗浄装置

日立ハイテクのバッチ式洗浄システム。大量処理に適しており、コスト効率の高い洗浄プロセスを実現。

対応ウェハ径	最大 300 mm
処理方式	バッチ式薬液槽浸漬
バッチ処理枚数	最大 25 枚／バッチ
主要用途	量産工程向け一般洗浄
対応薬液	SC1・SC2・HF・リン酸

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※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

メーカー

2社の主要メーカー

SCREENホールディングス日本

半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。

洗浄装置

ウェーハ洗浄システム

塗布現像装置

コータ/デベロッパ

検査装置

検査システム計測システム

•洗浄装置で世界トップシェア
•表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術

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日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

検査・計測装置

CD-SEMウェハ検査装置マスク検査装置膜厚計測装置

加工装置

プラズマエッチング装置

分析装置

走査電子顕微鏡（SEM）透過電子顕微鏡（TEM）

•CD-SEM（測長SEM）で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
•2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供

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関連カテゴリ

ドライ洗浄装置→

シングルウェハ洗浄装置→

ウェット洗浄装置→

関連用語

バッチ式洗浄（槽式）とは →洗浄とは →枚葉洗浄とは →ドライ洗浄（COR）とは →RCAクリーニングとは →オゾン水洗浄とは →SPM洗浄とは →DHF洗浄とは →メガソニック洗浄とは →二流体洗浄とは →ブラシ洗浄（PVAスクラバ）とは →ポストCMP洗浄とは →

比較・違いを学ぶ

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