SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

洗浄装置メーカー6Cleaning Equipment

洗浄装置は、半導体製造プロセスにおいてウェハ表面のパーティクル(微粒子)、金属不純物、有機物、自然酸化膜などの汚染物質を除去する最も頻繁に使用される重要な前工程装置です。薬液や超純水を用いるウェット洗浄(バッチ式・枚葉式)と、ガスやプラズマを用いるドライ洗浄に大別されます。成膜や露光、エッチングなど各工程の前後で繰り返し行われ、全体の工程数の約3割を占めるとも言われています。微細化(3nm/2nm世代)や3D構造化が進むにつれ、微細パターンの倒壊を防ぐ超低ダメージ洗浄や、高アスペクト比の深穴底部の精密洗浄が求められており、歩留まり向上に直結する中核技術となっています。

メーカー 6サブカテゴリ 4

重要ポイント

ウェハ表面のパーティクルや金属不純物、有機物などの汚染物質を高精度に除去
ウェット洗浄(バッチ式・枚葉式)とドライ洗浄があり、用途に応じて使い分ける
全製造工程数の約3割を占め、各主要工程の前後で繰り返し実行される非常に重要な工程
微細化によるパターン倒壊の防止や、3D構造の深穴底部洗浄が最先端の技術課題

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メーカー

6社の主要メーカー

SCREENホールディングス日本

半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実現。

  • 洗浄装置で世界トップシェア
  • 表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術
  • ナノレベルの高精度処理技術
東京エレクトロン(TEL)日本

世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技術を提供。

  • コータ/デベロッパで世界トップクラスのシェア
  • 塗布、成膜、エッチング装置の総合ラインナップ
  • 先端プロセスに対応する幅広い技術ポートフォリオ
日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

  • CD-SEM(測長SEM)で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
  • 2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供
  • 電子顕微鏡技術を基盤とした検査・分析・加工の一貫ソリューション
Ultra Clean Holdings(UCT)米国

半導体製造装置向けサブシステム・部品・洗浄サービスのアウトソーシング専業企業。AMAT・Lam Research・ASMLなど大手OEMを主要顧客に持つ。

  • 主要装置OEM向けガス流路モジュールのトップサプライヤー
  • チャンバー部品の精密加工・洗浄再生サービス
  • 垂直統合型のサプライチェーンで短納期を実現
SEMES韓国

サムスン電子系列の半導体製造装置メーカー。洗浄・成膜・エッチング・露光後処理装置でサムスンのメモリ・ロジックFABを支援。韓国最大の装置メーカー。

  • Samsung傘下として最先端メモリ・ロジックFABに最適化した装置を開発
  • スピンコータ・デベロッパ・洗浄装置で韓国トップシェア
  • 3D NAND・FinFET向けの高アスペクト比エッチング・洗浄技術
三益半導体工業日本

シリコンウェハの加工受託を主業とする群馬のメーカー。インゴットのスライスから面取り、ラッピング、エッチング、鏡面研磨、洗浄までウェハ加工の一連工程を受託し、信越半導体との結び付きが強い。

  • スライスから鏡面研磨・洗浄までの一貫受託
  • 300mmウェハ加工の量産実績
  • 再生ウェハ(リクレーム)事業も展開

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