欠陥検査装置メーカー3社

欠陥検査装置は、半導体製造工程においてウェハやパターン上の微小な欠陥・異常を検出するための検査装置で、歩留まり向上と工程管理に不可欠です。

メーカー 3 社同じ分野の装置 9 カテゴリ
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主要特徴

光学・電子線で欠陥・パーティクル・スクラッチを自動検出
欠陥種類の分類でプロセス起因の不良発生源を特定
AI自動欠陥分類(ADC)で膨大な検査データを高速処理
早期異状検知により不良ロットの大量発生を防止
パターン欠陥・ランダム欠陥の両方に対応した検査手法

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目KLAPuma™ 9980KLAVoyager® 1035KLA8935(8 シリーズ)日立ハイテクDI4600(暗視野式ウェーハ欠陥検査装置)レーザーテックCIRIUS シリーズ
特徴NanoPoint などの設計情報を使う検査DefectWise 深層学習・量子効率 30% 向上のセンサーDesignWise・FlexPoint・DefectWise AI高スループットと検出感度の両立—
主要用途量産ラインの欠陥モニタ現像後検査(ADI)・フォトセル監視(EUV)—先端メモリ・ロジックのインライン欠陥管理—
方式—レーザー走査型(斜入射照明)高生産性のパターン付きウェーハ検査—独自光学系による内部欠陥検査+レビュー光学系
検査対象パターン付きウェーハ(ロジック・メモリ)——パターン付きウェーハ(φ300 mm 専用)—
検出方式レーザースキャン——暗視野(シートビーム・空間フィルタ)—
1機種だけが掲載している項目(3件)
対応基板——150/200/300 mm の Si・SiC・GaN・ガラスなど——
機能————内部欠陥の深さ分類
対象————3D NAND などの高積層デバイス・貼り合わせウェーハ

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

代表製品・スペック

製品写真
KLA

Puma™ 9980

KLA のレーザースキャン方式 パターン付きウェーハ欠陥検査装置。量産モニタに必要なスループットで重要欠陥を捉える。

検査対象パターン付きウェーハ(ロジック・メモリ)
検出方式レーザースキャン
特徴NanoPoint などの設計情報を使う検査
主要用途量産ラインの欠陥モニタ
製品写真
KLA

Voyager® 1035

深層学習の DefectWise を持つレーザー走査型の欠陥検査装置。EUV レジストの現像後検査などに使う。

方式レーザー走査型(斜入射照明)
特徴DefectWise 深層学習・量子効率 30% 向上のセンサー
主要用途現像後検査(ADI)・フォトセル監視(EUV)
製品写真
KLA

8935(8 シリーズ)

多様な欠陥を高スループットで検出する 8 シリーズの最新機種。150〜300mm の Si・SiC・GaN・ガラス基板に対応する。

方式高生産性のパターン付きウェーハ検査
対応基板150/200/300 mm の Si・SiC・GaN・ガラスなど
特徴DesignWise・FlexPoint・DefectWise AI
製品写真
日立ハイテク

DI4600(暗視野式ウェーハ欠陥検査装置)

シートビームでウェーハ全面を高速に検査する日立ハイテクの暗視野式ウェーハ欠陥検査装置。

検査対象パターン付きウェーハ(φ300 mm 専用)
検出方式暗視野(シートビーム・空間フィルタ)
特徴高スループットと検出感度の両立
主要用途先端メモリ・ロジックのインライン欠陥管理
製品写真
レーザーテック

CIRIUS シリーズ

3D NAND などの高積層デバイスやウェーハ貼り合わせ後の内部欠陥を検査・レビューする装置。

方式独自光学系による内部欠陥検査+レビュー光学系
機能内部欠陥の深さ分類
対象3D NAND などの高積層デバイス・貼り合わせウェーハ

※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

メーカー

3社の主要メーカー

KLA米国

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

検査装置
ウェーハ検査システムマスク検査装置
計測装置
CD計測膜厚計測オーバーレイ計測
データ分析
aiSIGHTKlarity
  • •検査・計測装置における世界的リーダー
  • •AI・データ分析を統合した先端プロセスコントロール
会社詳細
日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

検査・計測装置
CD-SEMウェハ検査装置マスク検査装置膜厚計測装置
加工装置
プラズマエッチング装置
分析装置
走査電子顕微鏡(SEM)透過電子顕微鏡(TEM)
  • •CD-SEM(測長SEM)で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
  • •2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供
会社詳細
レーザーテック日本

EUVマスク欠陥検査装置で世界唯一のサプライヤー。半導体・FPD向け検査・計測装置の専業メーカーとして、マスク検査(MATRICS/MAGICS)・ウェーハ検査・膜厚計測装置を展開。

EUVマスク検査
MATRICS(EUVマスク欠陥検査)MAGICS(マスクブランクス検査)
ウェーハ検査
光学式ウェーハ表面検査装置ベアウェーハ検査装置
計測
膜厚計測装置3D形状計測装置
  • •EUVマスク欠陥検査装置(MATRICS)で世界シェア100%の独占供給
  • •ArF/EUV向けマスクブランクス検査(MAGICS)でも業界標準機を提供
会社詳細

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