膜厚計測装置
膜厚計測装置は、成膜後の膜厚や光学特性を測定するための計測装置です。プロセスの再現性確保と歩留まり向上に貢献します。
主要特徴
- •分光エリプソメトリー・反射分光でオングストローム精度の膜厚計測
- •ゲート酸化膜・誘電体膜・金属膜の厚さを非破壊測定
- •成膜プロセスの安定性確認と製造ばらつき低減に直結
- •XRF・XRD等を組み合わせた多層膜の総合評価
- •ALD・CVDなどの成膜プロセス制御へのフィードバックに活用
関連用語（用語集）
定義・用語の概要は用語集で解説しています。
膜厚計測装置は、成膜後の膜厚や光学特性を測定するための計測装置です。プロセスの再現性確保と歩留まり向上に貢献します。
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