マスク検査装置
マスク検査装置は、フォトマスク上の欠陥や異物を検出するための装置です。露光工程の品質を左右する重要分野です。
主要特徴
- •Die-to-Database比較で透明・不透明・位相欠陥を検出
- •マスク品質が最終デバイスの歩留まりと性能に直結
- •EUVマスク検査では反射光学系・電子線を組み合わせ
- •先端プロセス向けの高感度・高スループット検査が必要
- •マスク修正装置と組み合わせて欠陥修復プロセスを形成
関連用語（用語集）
定義・用語の概要は用語集で解説しています。
マスク検査装置は、フォトマスク上の欠陥や異物を検出するための装置です。露光工程の品質を左右する重要分野です。
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