SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

マスク検査装置メーカー4社

マスク検査装置は、フォトマスク上の欠陥や異物を検出するための装置です。露光工程の品質を左右する重要分野です。

メーカー 4 社関連カテゴリ 5 件

主要特徴

Die-to-Database比較で透明・不透明・位相欠陥を検出

マスク品質が最終デバイスの歩留まりと性能に直結

EUVマスク検査では反射光学系・電子線を組み合わせ

先端プロセス向けの高感度・高スループット検査が必要

マスク修正装置と組み合わせて欠陥修復プロセスを形成

代表製品・スペック

製品写真

KLA

Teron 640e

KLAのEUV・ArFフォトマスク検査装置。マスク上のサブ20nm欠陥を高感度で検出する。

検査対象	EUV・ArFフォトマスク
光源	193 nm（ArF）/ EUV対応
最小欠陥検出	20 nm 以下
主要用途	先端ノード用マスクの品質保証
検査モード	透過・反射・暗視野

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製品写真

日立ハイテク

マスク検査装置（MD シリーズ）

日立ハイテクの電子線マスク検査システム。電子線による高分解能マスクパターン検査に対応。

検査対象	KrF・ArF・EUVフォトマスク
検査方式	電子線スキャン
分解能	5 nm 以下
主要用途	マスク製造工程での欠陥・CD検査
対応マスクサイズ	6インチ角（152mm角）

日立ハイテクの企業情報を見る →

※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

メーカー

4社の主要メーカー

KLA米国

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

検査装置

ウェーハ検査システムマスク検査装置

計測装置

CD計測膜厚計測オーバーレイ計測

データ分析

aiSIGHTKlarity

•検査・計測装置における世界的リーダー
•AI・データ分析を統合した先端プロセスコントロール

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日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

検査・計測装置

CD-SEMウェハ検査装置マスク検査装置膜厚計測装置

加工装置

プラズマエッチング装置

分析装置

走査電子顕微鏡（SEM）透過電子顕微鏡（TEM）

•CD-SEM（測長SEM）で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
•2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供

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レーザーテック日本

EUVマスク欠陥検査装置で世界唯一のサプライヤー。半導体・FPD向け検査・計測装置の専業メーカーとして、マスク検査（MATRICS/MAGICS）・ウェーハ検査・膜厚計測装置を展開。

EUVマスク検査

MATRICS（EUVマスク欠陥検査）MAGICS（マスクブランクス検査）

ウェーハ検査

光学式ウェーハ表面検査装置ベアウェーハ検査装置

計測

膜厚計測装置3D形状計測装置

•EUVマスク欠陥検査装置（MATRICS）で世界シェア100%の独占供給
•ArF/EUV向けマスクブランクス検査（MAGICS）でも業界標準機を提供

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ホロン日本

電子ビーム応用装置のメーカー。フォトマスクの欠陥レビューSEMやマスク欠陥修正装置、測長SEMなどを供給し、マスク製造の品質保証工程を支える。

マスク検査・修正

マスク欠陥レビューSEMマスク欠陥修正装置

計測装置

測長SEM（CD-SEM）

•電子ビーム光学系の自社設計
•マスク欠陥のレビューと修正を担う装置群

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関連カテゴリ

欠陥検査装置→

電子線（EB）検査装置→

光学式ウェーハ検査装置→

膜厚計測装置→

ウェハ検査装置→

関連用語

マスク検査とは →ウェハ検査とは →CD-SEM（臨界寸法計測）とは →オーバーレイ計測とは →膜厚計測とは →欠陥検査とは →計測（メトロロジー）とは →OCD（光学的臨界寸法計測）とは →歩留まり管理とは →バーチャルメトロロジーとは →

比較・違いを学ぶ

電子ビーム検査と光学検査の違い（欠陥検査方式の比較）

電子ビーム検査（E-beam Inspection）は電子ビームでウェハを走査し二次電子・反射電子像から欠陥を検出する方式で、数nm級の微小欠陥や配線のオープン…

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