マスク描画装置（マスクライター）は、電子線（EB：Electron Beam）を用いてマスクブランク上に回路パターンを直接描画する装置です。露光装置よりも高い解像度で描画でき、マスクパターンの原版を作製します。EUVマスクやナノインプリントリソグラフィ用テンプレートの作製にも使用されます。
ニューフレアテクノロジー（東芝出身）がほぼ独占的に量産用EBマスクライターを供給しており、日本電子（JEOL）も補完的に市場に参加しています。1台が数十億円超の高額装置です。
マスク描画装置（マスクライター）は、電子ビーム（EB）でマスクブランクス上のレジストに回路パターンを直接描き込みます。光を使わず電子ビームで描くため解像度が高く、微細で複雑なマスクパターンを形成できますが、1枚あたりの描画時間が長いのが課題です。
スループット向上のため、多数の電子ビームを同時に使うマルチビームマスクライターが先端マスク（EUV含む）で主流になっています。ニューフレアテクノロジーがほぼ独占的に量産用EBマスクライターを供給し、日本電子（JEOL）が補完しています。
