日本電子（JEOL）

マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。

検査装置は、ウェハ製造プロセスの各工程で発生する欠陥を検出し、歩留まり向上と品質保証を実現する装置群です。

CD-SEM（Critical Dimension Scanning Electron Microscope）は、ナノメートル精度でリソグラフィ・エッチング後のパターン線幅（CD）を非破壊計測する装置です。