マスク製造装置は、半導体露光工程に使用するフォトマスク（レチクル）を製造するための装置群です。電子線描画装置（マスクライター）・マスク検査装置・マスク修正装置などで構成されます。特にEUVマスクの製造では、マスクブランク・特殊コーティング・EUVマスク検査など高度な技術が必要です。
ニューフレアテクノロジー（電子線描画）・JEOL・レーザーテック（マスク検査）が主要プレーヤーです。1枚のフォトマスクは数千万〜数億円と高価で、マスク製造歩留まりは半導体製造コストに直接影響します。
フォトマスク（レチクル）はウェハに回路パターンを転写する原版で、その品質が露光精度を直接左右します。製造工程は、電子ビーム描画でマスクブランクスにパターンを描き、現像・エッチング後、欠陥検査・修正を経て完成します。
EUVマスクは反射型（Mo/Si多層膜）でDUVと構造が根本的に異なり、ブランクスの無欠陥化やアクチニック（13.5nm）検査が課題です。ニューフレアテクノロジー（電子線描画）、JEOL、レーザーテック（マスク検査）が主要メーカーです。
