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ニューフレアテクノロジー

半導体マスク(レチクル)製造用の電子線(EB)描画装置の世界最大手。浜松ホトニクスグループ。EUV対応マスクブランクスへのパターン描画に不可欠な装置を提供。

🌐 日本装置メーカー公式サイト

当サイトでの位置づけ

Semiraiのマスク製造装置カテゴリでは、マルチビームEB描画装置によりEUV・ArFマスクパターンを描画する世界最大のマスクライターメーカーとして参照されます。

企業の強み

EBマスク描画装置(マルチビームEB)で世界最大手・国内独占的地位
EUV世代対応の高精度マルチビームEB描画システムを展開
浜松ホトニクスグループの光・電子技術を基盤とした高精度光学系

主要製品・ソリューション

EB描画装置

  • EBM-9000シリーズ(EUV対応)
  • EBM-8000シリーズ(ArF対応)

CVD装置

  • マスク修正用CVD装置

関連装置カテゴリ

マスク描画装置
マスク製造装置

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ニューフレアテクノロジーを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

マスク描画とは →マスク製造とは →EUV露光とは →
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