マスク描画装置（EB描画）メーカー6社
マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。EUV・ArF液浸露光に対応した最先端マスクの製造に不可欠で、サブナノメートルの位置精度が求められます。ニューフレアテクノロジー（NuFlare Technology）が量産向けEB描画装置で世界トップシェアを持ち、日本電子（JEOL）が研究・試作向け装置で強みを発揮します。
主要特徴
よくある質問
マスク描画装置とは何ですか？▾
マスク描画装置の主要メーカーはどこですか？▾
EUV用マスクの描画精度はなぜ重要ですか？▾
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ニューフレアテクノロジーMBM-3000 | 日本電子（JEOL）JBX-3200MVS | Applied MaterialsAlta® 4700DP Mask Writer |
|---|---|---|---|
| 描画方式 | マルチ電子ビーム | 可変成形ビーム（50 kV） | DUV レーザー描画（高 NA 光学系） |
| 特徴 | 12 nm ビームレット・電流密度 3.6 A/cm² | 描画面積 150 × 150 mm・ドーズ変調・重ね描き機能 | 新データパスで従来比 10〜50% 高速・2 パス／4 パス描画 |
| 世代 | 2nm ノード | 32 ～ 28nm ノード | — |
| 主要用途 | 先端フォトマスクの描画 | マスク・レチクル（レガシー品含む）の描画 | — |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| 関連機種 | MBM-2000PLUS（前機種） | — | — |
|---|---|---|---|
| 対象 | — | — | バイナリマスク・位相シフトマスク |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
| 描画方式 | マルチ電子ビーム |
| 世代 | 2nm ノード |
| 特徴 | 12 nm ビームレット・電流密度 3.6 A/cm² |
| 関連機種 | MBM-2000PLUS（前機種） |
| 主要用途 | 先端フォトマスクの描画 |
| 描画方式 | 可変成形ビーム（50 kV） |
| 世代 | 32 ～ 28nm ノード |
| 特徴 | 描画面積 150 × 150 mm・ドーズ変調・重ね描き機能 |
| 主要用途 | マスク・レチクル（レガシー品含む）の描画 |
| 描画方式 | DUV レーザー描画（高 NA 光学系） |
| 対象 | バイナリマスク・位相シフトマスク |
| 特徴 | 新データパスで従来比 10〜50% 高速・2 パス／4 パス描画 |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
6社の主要メーカー
半導体マスク（レチクル）製造用の電子線（EB）描画装置の世界最大手。浜松ホトニクスグループ。EUV対応マスクブランクスへのパターン描画に不可欠な装置を提供。
- •EBマスク描画装置（マルチビームEB）で世界最大手・国内独占的地位
- •EUV世代対応の高精度マルチビームEB描画システムを展開
電子顕微鏡・電子線描画装置・分析機器の総合メーカー。半導体分野ではマスク描画用EB装置・電子線露光装置、研究用TEM/SEMを提供。
- •電子線描画装置（JBX シリーズ）で研究・試作向け市場を牽引
- •TEM/SEMなど電子顕微鏡で世界トップシェアを持つ
電力用変圧器・開閉装置を主力とする重電メーカー。光応用計測やレーザ加工の技術を持ち、フォトマスク関連を含む精密計測・描画分野にも製品を展開している。
- •電力機器で培った高信頼設計
- •光応用計測・レーザ技術の蓄積
電子ビーム（EB）マスク描画装置のドイツ発専業メーカー。フォトマスク製造向けの高精度EB描画装置を、研究開発から量産用途まで供給する。
- •EBマスク描画装置の専業メーカー
- •高精度パターン形成技術に強み
電子ビーム（EB）描画装置の専業メーカー。研究開発用途から微細加工向けまで、高分解能なEBリソグラフィ装置を国内外に供給する。
- •電子ビーム描画装置の専業メーカー
- •研究開発用途で豊富な導入実績
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。
- •世界最大の半導体製造装置サプライヤー
- •成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオ
同じ分野の装置カテゴリ
マスク洗浄・乾燥装置は、フォトマスク（レチクル）表面に付着したパーティクル・有機汚染・ヘイズを除去する装置です。
メーカー 4 社マスクコータ／デベロッパマスクコータ／デベロッパは、マスクブランクスへのレジスト塗布と、電子線描画後の現像を行う装置です。
メーカー 3 社マスクエッチング装置マスクエッチング装置は、電子線描画と現像を経たレジストパターンをマスクとして、ブランクス上のクロム膜や位相シフト膜（MoSi）をエッチングし、最終的な遮光パターンを形成する装置です。
メーカー 2 社マスク寸法・平面度測定装置マスク寸法・平面度測定装置は、完成したフォトマスクのパターン寸法（CD）・位置精度（レジストレーション）・基板の平坦度を測定する装置です。
メーカー 6 社マスク修正装置マスク修正装置は、製造後のフォトマスク（レチクル）に存在する欠陥を原子・ナノメートルレベルで除去・補修する装置です。
メーカー 3 社レチクルストッカーレチクルストッカーは、フォトマスク（レチクル）をクリーンな環境で保管し、露光装置からの要求に応じて自動で払い出す保管・搬送システムです。
メーカー 1 社