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マスク描画装置（EB描画）メーカー3社
マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。EUV・ArF液浸露光に対応した最先端マスクの製造に不可欠で、サブナノメートルの位置精度が求められます。ニューフレアテクノロジー（NuFlare Technology）が量産向けEB描画装置で世界トップシェアを持ち、日本電子（JEOL）が研究・試作向け装置で強みを発揮します。
メーカー 3 社関連カテゴリ 1 件
主要特徴
電子線（EB）でマスクブランクにナノメートル精度のパターンを描画
EUV・ArF液浸対応マスクの製造に不可欠な装置
ニューフレアテクノロジー（NuFlare）が量産向け世界シェア首位
JEOL（日本電子）が研究・試作向けで国際的な存在感
Multi-beam描画（IMS）でスループット向上が進行中
よくある質問
メーカー
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比較・違いを学ぶ
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