COMPANY DATABASE
IMS Nanofabrication（Applied Materials傘下）
マルチビーム電子ビーム描画装置（MBES）の開発・製造メーカー。従来のシングルビームより大幅に高速なEUVマスク描画を実現。2021年にApplied Materialsに買収されたオーストリア企業。
当サイトでの位置づけ
マスク装置クラスターでは、マルチビーム電子ビーム描画（MBES）技術の開発元として、EUVマスクの高速・高精度描画を可能にする革新的装置を提供します。Applied Materials傘下（2021年買収）として量産展開を加速しています。
企業の強み
数千本の電子ビームを並列動作させるMBES（Multi-Beam E-Beam System）技術
従来VSB方式比10〜100倍のスループット向上でEUVマスク描画時間を大幅短縮
Applied Materials傘下として量産サポート・グローバル展開を強化
EUV・High-NA EUV対応マスク製造の次世代標準として業界注目
主要製品・ソリューション
マルチビーム描画装置
- •MBMW-101（量産向けマルチビーム描画装置）
- •eMET（EUVマスク描画評価システム）
関連装置カテゴリ
📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、IMS Nanofabrication（Applied Materials傘下）を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
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