IMS Nanofabrication（Applied Materials傘下）

マルチビーム電子ビーム描画装置（MBES）の開発・製造メーカー。従来のシングルビームより大幅に高速なEUVマスク描画を実現。2021年にApplied Materialsに買収されたオーストリア企業。

オーストリア・装置メーカー・公式サイト ↗

当サイトでの位置づけ

マスク装置クラスターでは、マルチビーム電子ビーム描画（MBES）技術の開発元として、EUVマスクの高速・高精度描画を可能にする革新的装置を提供します。Applied Materials傘下（2021年買収）として量産展開を加速しています。

企業の強み

数千本の電子ビームを並列動作させるMBES（Multi-Beam E-Beam System）技術

従来VSB方式比10〜100倍のスループット向上でEUVマスク描画時間を大幅短縮

Applied Materials傘下として量産サポート・グローバル展開を強化

EUV・High-NA EUV対応マスク製造の次世代標準として業界注目

主要製品・ソリューション

マルチビーム描画装置

•MBMW-101（量産向けマルチビーム描画装置）
•eMET（EUVマスク描画評価システム）

関連装置カテゴリ

マスク描画装置

マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。

メーカー 6 社マスク製造装置

マスク製造装置（フォトマスク・レチクル製造装置）は、半導体露光工程で使われるフォトマスク（レチクル）を製造・検査・修正する装置群です。

メーカー 7 社

半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、IMS Nanofabrication（Applied Materials傘下）を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

マスク描画とは→マスク製造とは→EUV露光とは→

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