SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

マスク製造装置メーカー7Mask Equipment

マスク製造装置(フォトマスク・レチクル製造装置)は、半導体露光工程で使われるフォトマスク(レチクル)を製造・検査・修正する装置群です。EUV・ArF世代の微細パターンは、マスク上の欠陥が直接ウェハ上の不良につながるため、マスク描画・検査・修正の各工程で極めて高い精度が求められます。電子線描画装置(EB描画装置)はナノメートル精度でパターンをマスクブランクに描画し、マスク検査装置は描画後のパターン欠陥を光学・電子ビームで検出します。マスク修正装置は検出された欠陥を原子レベルで除去・補修することで、高価なマスクの再利用率を高めます。EUV露光の普及に伴い、マスク精度要求はさらに高まっており、装置の重要性が増しています。

メーカー 7サブカテゴリ 2

重要ポイント

フォトマスク(レチクル)の描画・検査・修正を担う専門装置群
EB描画装置でナノメートル精度のパターンをマスクブランクに形成
マスク検査でEUV/ArF世代の微細欠陥を光学・電子ビームで検出
マスク修正装置で欠陥を原子レベルで補修し再利用率を向上

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メーカー

7社の主要メーカー

ニューフレアテクノロジー日本

半導体マスク(レチクル)製造用の電子線(EB)描画装置の世界最大手。浜松ホトニクスグループ。EUV対応マスクブランクスへのパターン描画に不可欠な装置を提供。

  • EBマスク描画装置(マルチビームEB)で世界最大手・国内独占的地位
  • EUV世代対応の高精度マルチビームEB描画システムを展開
  • 浜松ホトニクスグループの光・電子技術を基盤とした高精度光学系
日本電子(JEOL)日本

電子顕微鏡・電子線描画装置・分析機器の総合メーカー。半導体分野ではマスク描画用EB装置・電子線露光装置、研究用TEM/SEMを提供。

  • 電子線描画装置(JBX シリーズ)で研究・試作向け市場を牽引
  • TEM/SEMなど電子顕微鏡で世界トップシェアを持つ
  • 半導体から素材・ライフサイエンスまで幅広い電子ビーム応用技術
KLA米国

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

  • 検査・計測装置における世界的リーダー
  • AI・データ分析を統合した先端プロセスコントロール
  • サブ10nmプロセスの欠陥検出能力
日立ハイテク日本

世界をリードする計測・検査技術のパイオニア。電子顕微鏡技術を核とした「見る・測る・分析する」の総合力で、2nm/3nm世代の先端半導体製造をサポート。

  • CD-SEM(測長SEM)で世界シェア約80%を占める圧倒的なポジション
  • 2nm/3nm世代の先端プロセスに不可欠な計測技術を提供
  • 電子顕微鏡技術を基盤とした検査・分析・加工の一貫ソリューション
レーザーテック日本

EUVマスク欠陥検査装置で世界唯一のサプライヤー。半導体・FPD向け検査・計測装置の専業メーカーとして、マスク検査(MATRICS/MAGICS)・ウェーハ検査・膜厚計測装置を展開。

  • EUVマスク欠陥検査装置(MATRICS)で世界シェア100%の独占供給
  • ArF/EUV向けマスクブランクス検査(MAGICS)でも業界標準機を提供
  • 高感度光学系技術を基盤に検査・計測の両領域をカバー
ホロン日本

電子ビーム応用装置のメーカー。フォトマスクの欠陥レビューSEMやマスク欠陥修正装置、測長SEMなどを供給し、マスク製造の品質保証工程を支える。

  • 電子ビーム光学系の自社設計
  • マスク欠陥のレビューと修正を担う装置群
  • 測長SEMによる寸法計測にも対応
東光高岳日本

電力用変圧器・開閉装置を主力とする重電メーカー。光応用計測やレーザ加工の技術を持ち、フォトマスク関連を含む精密計測・描画分野にも製品を展開している。

  • 電力機器で培った高信頼設計
  • 光応用計測・レーザ技術の蓄積
  • 国内一貫の設計・製造・保守体制

関連カテゴリ

関連用語

フォトマスクとは →レチクルとは →EUV露光とは →リソグラフィとは →