SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
マスク製造装置メーカー7社Mask Equipment
マスク製造装置(フォトマスク・レチクル製造装置)は、半導体露光工程で使われるフォトマスク(レチクル)を製造・検査・修正する装置群です。EUV・ArF世代の微細パターンは、マスク上の欠陥が直接ウェハ上の不良につながるため、マスク描画・検査・修正の各工程で極めて高い精度が求められます。電子線描画装置(EB描画装置)はナノメートル精度でパターンをマスクブランクに描画し、マスク検査装置は描画後のパターン欠陥を光学・電子ビームで検出します。マスク修正装置は検出された欠陥を原子レベルで除去・補修することで、高価なマスクの再利用率を高めます。EUV露光の普及に伴い、マスク精度要求はさらに高まっており、装置の重要性が増しています。
メーカー 7 社サブカテゴリ 2 件
重要ポイント
フォトマスク(レチクル)の描画・検査・修正を担う専門装置群
EB描画装置でナノメートル精度のパターンをマスクブランクに形成
マスク検査でEUV/ArF世代の微細欠陥を光学・電子ビームで検出
マスク修正装置で欠陥を原子レベルで補修し再利用率を向上
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メーカー
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