露光装置（リソグラフィ装置）はウェハ上にマスクパターンを転写し、微細な回路パターンを形成する前工程の最重要装置です。波長が短い光（EUV）を使うことで、より微細な加工が可能になりますが、EUV技術はASMLが開発・製造を独占しています。2026年は、先端ノード向けEUV需要の急増と、成熟プロセス向けDUVの堅調な需要が並立する構図が続く見込みです。
#1
ASML
オランダ
EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー。High-NA EUVで8nmの解像度を実現し、5nm以下の先端プロセスに不可欠な存在。2026年も供給制約の中で需要が集中し続ける見込み。DUV装置もラインナップしており、微細化トレンドの中核を占める。
EUV独占High-NA5nm以下
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