5nmプロセスは、最小ゲート長が5nm相当の微細化レベルを示す先端半導体製造プロセス技術です。2020年頃から量産が開始され、スマートフォン向けプロセッサ（Apple A14、Snapdragon 888など）やデータセンター向けチップに広く採用されています。TSMCとSamsungが主要な製造能力を持っています。
5nmプロセスでは、FinFETトランジスタ構造とEUV（極紫外線）露光技術が採用されています。EUVの導入により、従来のArF液浸露光で必要だった多重パターニング工程を大幅に簡素化でき、製造工程の短縮と歩留まり向上を実現しています。7nmプロセスと比較して、約15%の性能向上と30%の消費電力削減が可能です。
5nmプロセスは、3nmプロセスへの移行が進む中でも、コストと性能のバランスが良好なため、多くのアプリケーションで採用が続いています。特に、先端プロセスへの移行コストが高いミドルレンジ製品や、成熟した設計資産を活用したい製品では、5nmプロセスが引き続き重要な選択肢となっています。