Lam Research

エッチング装置の世界的リーダー。約39%の市場シェアを持ち、原子層エッチング(ALE)技術で先端3Dチップアーキテクチャを支える。

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当サイトでの位置づけ

当サイトのエッチング関連カテゴリ(ドライ・導体・絶縁膜等)において、プロセスの主役となる装置群を代表するメーカーとして一覧・用語から参照されます。

企業の強み

エッチング装置で世界シェア約39%のトップポジション
原子層エッチング(ALE)技術における技術リーダーシップ
GAA、3D NAND、DRAMなど先端3Dアーキテクチャのサポート

主要製品・ソリューション

エッチング装置

  • •Kiyo
  • •Flex
  • •Vantex
  • •Akara

成膜装置

  • •デポジションシステム

洗浄装置

  • •ウェーハ洗浄装置

Lam Researchの製品

Kiyo®(コンダクタエッチング)(ドライエッチング装置)Flex®(誘電体エッチング)(酸化膜エッチャー)Versys® Metal(金属エッチャー)Sense.i®(材料別エッチャー)Selective Etch(Argos®/Prevos®/Selis®)(ドライ洗浄装置)Striker®(枚葉ALD)(ALD装置)VECTOR®(PECVD)(CVD装置)SABRE® 3D(めっき装置(電解銅めっき))Syndion®(深堀りシリコンエッチング)(CMOSイメージセンサー製造装置)SABRE®(銅 ECD)(めっき装置(電解銅めっき))Coronus®(ベベルエッチング・成膜)(ドライエッチング装置)EOS®(ウェット洗浄)(シングルウェハ洗浄装置)DV-Prime®/Da Vinci®(シングルウェハ洗浄装置)SP Series(SP203L/SP223/SP323)(ウェットエッチング装置)Akara®(ドライエッチング装置)Triton(枚葉めっき・ウェット処理)(ウェハレベルパッケージング)Kallisto(パネル ECD)(ウェハレベルパッケージング)Phoenix(パネル処理)(ウェハレベルパッケージング)ALTUS®(W/Mo の CVD・ALD)(CVD装置)SPEED®(HDP-CVD)(CVD装置)GAMMA®(ストリップ)(アッシング装置(レジスト灰化))SOLA®(UV 熱処理)(アニール炉)Vantex®(誘電体エッチング)(酸化膜エッチャー)Metior®(質量計測)(膜厚計測装置)Prestis™(AlScN PVD)(PVD装置)DSiE™(深堀りシリコンエッチング)(MEMS)SEMulator3D®(品質・歩留まり管理システム(YMS))Fabtex™ Yield Optimizer(品質・歩留まり管理システム(YMS))

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