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HOYA

光学・医療・情報技術の世界的企業。半導体分野ではフォトマスクブランクのトップサプライヤーで、EUV用マスクブランクの開発・供給で世界的存在感を持つ。

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当サイトでの位置づけ

マスク装置クラスターでは、フォトマスクブランク(EUV・ArFマスク基板)の主要サプライヤーとして位置づけられます。マスク描画・マスク修正の素材起点を担う材料企業です。

企業の強み

EUV・ArF液浸用フォトマスクブランクで世界トップクラスのシェア
超高純度合成石英ガラス基板の製造技術で高い障壁
マスクブランク欠陥管理・品質保証の高度なノウハウ
医療・光学・情報技術との複合技術基盤

主要製品・ソリューション

マスクブランク

  • EUV用マスクブランク(Mo/Si多層膜)
  • ArF用ハーフトーン位相シフトマスクブランク
  • クロムマスクブランク

合成石英基板

  • フォトマスク用超高純度合成石英ガラス基板
  • LTEM(超低熱膨張)基板

関連装置カテゴリ

マスク製造材料
材料

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、HOYAを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

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ALDとCVDの違い(原子層成膜 vs 化学気相成膜)
CVD(Chemical Vapor Deposition)は反応ガスを同時供給して連続的に成膜するのに対し、ALD(Atomic Layer Depositi
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