当サイトでの位置づけ
マスク装置クラスターでは、フォトマスクブランク（EUV・ArFマスク基板）の主要サプライヤーとして位置づけられます。マスク描画・マスク修正の素材起点を担う材料企業です。
企業の強み
EUV・ArF液浸用フォトマスクブランクで世界トップクラスのシェア
超高純度合成石英ガラス基板の製造技術で高い障壁
マスクブランク欠陥管理・品質保証の高度なノウハウ
医療・光学・情報技術との複合技術基盤
主要製品・ソリューション
マスクブランク
- •EUV用マスクブランク（Mo/Si多層膜）
- •ArF用ハーフトーン位相シフトマスクブランク
- •クロムマスクブランク
合成石英基板
- •フォトマスク用超高純度合成石英ガラス基板
- •LTEM（超低熱膨張）基板
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半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、HOYAを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
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