レーザーテック
EUVマスク欠陥検査装置で世界唯一のサプライヤー。半導体・FPD向け検査・計測装置の専業メーカーとして、マスク検査（MATRICS/MAGICS）・ウェーハ検査・膜厚計測装置を展開。
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当サイトでの位置づけ
SemiraiのマスクおよびEUV検査カテゴリでは、EUVマスク欠陥検査装置（MATRICS）の世界唯一のサプライヤーとして、EUVリソグラフィサプライチェーンにおける不可欠な存在として参照されます。
企業の強み
EUVマスク欠陥検査装置（MATRICS）で世界シェア100%の独占供給
ArF/EUV向けマスクブランクス検査（MAGICS）でも業界標準機を提供
高感度光学系技術を基盤に検査・計測の両領域をカバー
主要製品・ソリューション
EUVマスク検査
- •MATRICS（EUVマスク欠陥検査）
- •MAGICS（マスクブランクス検査）
ウェーハ検査
- •光学式ウェーハ表面検査装置
- •ベアウェーハ検査装置
計測
- •膜厚計測装置
- •3D形状計測装置
レーザーテックの製品
SICA88（結晶欠陥検査装置）OPTELICS® HYBRID+（形態観察装置（SEM/TEM））ACTIS A300 シリーズ（マスク検査装置）ACTIS A150（マスク検査装置）ACTIS A200HiT シリーズ（マスク検査装置）ABICS E320（マスク検査装置）ABICS E120（マスク検査装置）MATRICS X9ULTRA シリーズ（マスク検査装置）MATRICS X8ULTRA シリーズ（マスク検査装置）MATRICS X810EX シリーズ（マスク検査装置）MATRICS X712 シリーズ（マスク検査装置）MAGICS M9750／M9751（マスク検査装置）MAGICS M9650／M9651（マスク検査装置）MAGICS M6750／M6751（マスク検査装置）PELMIS シリーズ（マスク検査装置）BASIC シリーズ（マスク検査装置）MZ100（マスク検査装置）MPM193 シリーズ（マスク寸法・平面度測定装置）MPM248（マスク寸法・平面度測定装置）SICA108（結晶欠陥検査装置）GALOIS211（結晶欠陥検査装置）CIRIUS シリーズ（欠陥検査装置）LX シリーズ（マクロ検査装置）CIEL シリーズ（マクロ検査装置）EZ300（ウェハエッジ形状測定装置）（マクロ検査装置）VIANCA シリーズ（TSV形成装置）BGM300（TSV形成装置）BIM300（ウェハ全自動測定装置）（段差・表面粗さ測定装置）MAGICS M5640（ウェハ基板検査装置）
関連装置カテゴリ
マスク検査装置
マスク検査装置（Mask Inspection）は、フォトリソグラフィで使用するフォトマスク・レチクルの欠陥・汚染を検出するシステムです。
メーカー 6 社ウェハ検査装置ウェハ検査装置（Wafer Inspection）は、ウェハ表面のパーティクル・欠陥・パターン異常を自動検出するシステムです。
メーカー 5 社検査・計測装置検査装置は、ウェハ製造プロセスの各工程で発生する欠陥を検出し、歩留まり向上と品質保証を実現する装置群です。
メーカー 9 社EUV露光装置（マスク）EUV露光装置（Extreme Ultraviolet Lithography）は、波長13.5nmの極端紫外線を使用してウェハ上に超微細回路パターンを転写する露光装置です。
メーカー 2 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、レーザーテックを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
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パターニング・マスク・レジスト のトピックで関連する用語です。
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