材料別エッチャー
材料別エッチャー(Material Etcher)は、ドライエッチングのうち除去対象の薄膜材料(酸化膜・窒化膜・多結晶シリコン・金属・化合物半導体など)ごとに、プラズマ化学種・ガスレシピ・電極構造を最適化した装置群を指します。材料ごとに要求される選択比・異方性・ダメージ低減が異なるため、酸化膜用・ポリシリコン用・メタル用など専用チャンバを使い分ける構成が一般的です。マルチチャンバ集積装置では同一プラットフォーム上に複数材料向けモジュールを搭載し、工程間搬送を自動化します。
主要特徴
- •酸化膜・窒化膜・多結晶シリコン・金属など対象材料に応じたガスレシピとプラズマ条件を最適化
- •選択比・異方性・プラズマダメージ低減を両立する専用チャンバ設計
- •マルチチャンバ集積で材料別モジュールを同一プラットフォームに搭載可能
- •多層膜積層が進む先端ノードで材料別エッチング工程の重要性が増大
- •OES・レーザー干渉などエンドポイント検出による過剰エッチング防止
関連用語(用語集)
定義・用語の概要は用語集で解説しています。