特殊ガス（プロセスガス）は、半導体製造の成膜・エッチング・ドーピング工程で使用される高純度ガスの総称です。六フッ化硫黄（SF₆）・フッ化炭素系ガス（CF₄・C₄F₈等）・シラン（SiH₄）・アンモニア（NH₃）・塩化水素（HCl）など多種のガスが工程ごとに使用されます。
純度（99.9999%以上）と供給安定性が重要であり、エア・リキード・リンデ・大陽日酸などのガスメーカーが主要サプライヤーです。フッ素系ガスは地球温暖化係数が高く、環境規制への対応も重要課題です。
特殊ガスは用途別に、成膜用（SiH₄・WF₆・TEOS等）、エッチング用（CF₄・C₄F₈・Cl₂・HBr等）、ドーピング用（AsH₃・PH₃・B₂H₆）、チャンバークリーニング用（NF₃・F₂）などに分かれます。微量の水分・酸素・金属不純物が歩留まりを左右するため、ppb〜pptレベルの超高純度管理が不可欠です。
有毒・可燃・腐食性のガスが多く、安全な供給・保管・除害（アベイトメント）が法規制の対象です。エア・リキード、リンデ、メルク、エア・プロダクツや、日本のレゾナック・大陽日酸が主要サプライヤーです。先端プロセスほど使用ガス種が増え、供給網の安定性が重要になっています。
