特殊ガス・プロセスガスメーカー6社
特殊ガスは、半導体製造の成膜・エッチング・洗浄・ドーピングなどの各工程で使用される高純度ガスの総称です。NF₃（フッ化窒素：チャンバークリーニング）、WF₆（フッ化タングステン：CVDタングステン成膜）、AsH₃（アルシン：ドーピング）、SiH₄（シラン：シリコン成膜）、HF（フッ化水素：エッチング）など多岐にわたります。ppb〜ppt レベルの超高純度と安定供給が求められ、半導体製造の歩留まりと品質を直接左右する重要消耗材です。日本・米国・欧州の少数のメーカーが世界市場を寡占しています。
主要特徴
よくある質問
半導体製造で使われる特殊ガスの種類は？▾
特殊ガスの純度はどのくらいが求められますか？▾
特殊ガスの主要メーカーはどこですか？▾
スペック比較
複数の製品が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Merck KGaA（半導体材料）エッチング・成膜用特殊材料ガス（NF₃・C₄F₈ など） | Air Productsシラン系・アンモニア系特殊材料ガス | エア・リキード（半導体）電子材料ガス（先端材料ガス） |
|---|---|---|---|
| 主要ガス種 | NF₃・C₄F₈・CF₄・SF₆・WF₆ | SiH₄・Si₂H₆・NH₃・N₂O・PH₃・B₂H₆ | 高純度 N₂・Ar・He、フッ素系・塩素系ガス |
| 主要用途 | ドライエッチング・チャンバークリーニング・CVD | SiN・SiO₂・ポリシリコン成膜、ドーピング | エッチング・成膜・パージ |
| 純度の目安 | 99.999% 以上 | 99.999% 以上 | 99.9999% 以上（グレードによる） |
| 供給形態 | ボンベ・シリンダキャビネット | ボンベ・バルクスペシャルティガス供給 | シリンダ・バルク・オンサイト |
| 留意点 | 毒性・腐食性ガスは除害装置が前提 | 自然発火性・毒性ガスの安全設計が前提 | — |
1製品だけが掲載している項目（1件）
| 付帯サービス | — | — | ガスキャビネット・分析・保守 |
|---|
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
エッチング・成膜用特殊材料ガス（NF₃・C₄F₈ など）
ドライエッチングとチャンバークリーニングに使うフッ素系ガス群。旧 Versum Materials の事業を引き継ぎ、先端ノードの主要供給元になっている。
| 主要ガス種 | NF₃・C₄F₈・CF₄・SF₆・WF₆ |
| 主要用途 | ドライエッチング・チャンバークリーニング・CVD |
| 純度の目安 | 99.999% 以上 |
| 供給形態 | ボンベ・シリンダキャビネット |
| 留意点 | 毒性・腐食性ガスは除害装置が前提 |
シラン系・アンモニア系特殊材料ガス
CVD の膜そのものを作る材料ガス。シランは自然発火性、アンモニアは毒性があり、供給系と除害まで含めた設計が必須になる。
| 主要ガス種 | SiH₄・Si₂H₆・NH₃・N₂O・PH₃・B₂H₆ |
| 主要用途 | SiN・SiO₂・ポリシリコン成膜、ドーピング |
| 純度の目安 | 99.999% 以上 |
| 供給形態 | ボンベ・バルクスペシャルティガス供給 |
| 留意点 | 自然発火性・毒性ガスの安全設計が前提 |
電子材料ガス（先端材料ガス）
高純度ガスブランドと先端材料ガスを組み合わせた供給。ガス種ごとに専用の容器・配管・分析を揃えることで、ppb 級の管理を成立させる。
| 主要ガス種 | 高純度 N₂・Ar・He、フッ素系・塩素系ガス |
| 純度の目安 | 99.9999% 以上（グレードによる） |
| 供給形態 | シリンダ・バルク・オンサイト |
| 付帯サービス | ガスキャビネット・分析・保守 |
| 主要用途 | エッチング・成膜・パージ |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
6社の主要メーカー
産業ガス・特殊ガスの世界大手。半導体向けにはWF₆・NF₃・GeH₄・特殊エッチングガスなど、成膜・エッチング・クリーニングの全工程を支える。
- •半導体向け特殊ガスのグローバルトップサプライヤー
- •Fabオンサイト供給システムによる安定ガス供給
ドイツの特殊化学・製薬大手Merck KGaAの半導体材料部門。ALD前駆体・高誘電材料・フォトマスクブランクス・液晶など先端材料を供給。
- •ALD/CVD前駆体（High-k・メタルゲート材料）のグローバルリーダー
- •フォトマスクブランクスの主要サプライヤー
半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア（FOUP）・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。
- •半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ（CMC Materials統合後）
- •超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
フランスの産業ガス世界大手。半導体製造に使われる超高純度特殊ガス（フッ素・NF3・N2O・H2など）を供給。Lindeと並ぶ二大電子材料ガスメーカーの一角。
- •超高純度NF3（クリーニングガス）・フッ素・希少ガス供給で世界トップ
- •Air Products・Lindeと並ぶ産業ガス三強の一角
産業ガスを中核とする国内大手。窒素・酸素・水素などのバルクガスに加え、半導体プロセス向けの各種特殊ガスや、オンサイト供給設備・ガス供給配管システムを手掛ける。
- •バルクガスと特殊ガスの両方を供給
- •オンサイト発生設備によるファブ向け供給体制
空調機の世界大手。化学事業でフッ素化学製品を展開し、半導体向けにエッチングガスや、薬液の配管・部品に使うフッ素樹脂、シール材のフッ素ゴムなどを供給。
- •フッ素化学で世界大手。原料の蛍石から一貫したフッ素製品群
- •半導体用エッチングガスの新規開発と高純度化
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