SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
特殊ガス・プロセスガスメーカー5社
特殊ガスは、半導体製造の成膜・エッチング・洗浄・ドーピングなどの各工程で使用される高純度ガスの総称です。NF₃(フッ化窒素:チャンバークリーニング)、WF₆(フッ化タングステン:CVDタングステン成膜)、AsH₃(アルシン:ドーピング)、SiH₄(シラン:シリコン成膜)、HF(フッ化水素:エッチング)など多岐にわたります。ppb〜ppt レベルの超高純度と安定供給が求められ、半導体製造の歩留まりと品質を直接左右する重要消耗材です。日本・米国・欧州の少数のメーカーが世界市場を寡占しています。
メーカー 5 社関連カテゴリ 9 件
主要特徴
成膜・エッチング・洗浄・ドーピングに使われる超高純度ガスの総称
代表ガス:NF₃(クリーニング)・WF₆(タングステン成膜)・SiH₄(シリコン成膜)
ppb〜pptレベルの超高純度管理が製造歩留まりを左右
特殊ガス市場はAir Products・Linde・Merck(Versum)・Air Liquideが寡占
有毒ガス(AsH₃・PH₃)の安全保管・供給管理が法規制対象
よくある質問
メーカー
5社の主要メーカー