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特殊ガス・プロセスガスメーカー5

特殊ガスは、半導体製造の成膜・エッチング・洗浄・ドーピングなどの各工程で使用される高純度ガスの総称です。NF₃(フッ化窒素:チャンバークリーニング)、WF₆(フッ化タングステン:CVDタングステン成膜)、AsH₃(アルシン:ドーピング)、SiH₄(シラン:シリコン成膜)、HF(フッ化水素:エッチング)など多岐にわたります。ppb〜ppt レベルの超高純度と安定供給が求められ、半導体製造の歩留まりと品質を直接左右する重要消耗材です。日本・米国・欧州の少数のメーカーが世界市場を寡占しています。

メーカー 5関連カテゴリ 9

主要特徴

成膜・エッチング・洗浄・ドーピングに使われる超高純度ガスの総称
代表ガス:NF₃(クリーニング)・WF₆(タングステン成膜)・SiH₄(シリコン成膜)
ppb〜pptレベルの超高純度管理が製造歩留まりを左右
特殊ガス市場はAir Products・Linde・Merck(Versum)・Air Liquideが寡占
有毒ガス(AsH₃・PH₃)の安全保管・供給管理が法規制対象

よくある質問

半導体製造で使われる特殊ガスの種類は?
主な特殊ガスは、①成膜用:SiH₄(シラン)・WF₆(フッ化タングステン)・TiCl₄・AlCl₃、②エッチング用:CF₄・C₄F₈・HBr・Cl₂、③チャンバークリーニング用:NF₃・F₂、④ドーピング用:AsH₃(アルシン)・PH₃(ホスフィン)・B₂H₆(ジボラン)、⑤キャリアガス:N₂・Ar・He などです。
特殊ガスの純度はどのくらいが求められますか?
先端プロセス向けでは99.9999%(6N)以上の超高純度が必要で、不純物はppb〜pptレベルで管理されます。微量の水分・酸素・金属不純物がデバイス特性や歩留まりに直接影響するため、製造・充填・配管・バルブに至るサプライチェーン全体での不純物管理が不可欠です。
特殊ガスの主要メーカーはどこですか?
Air Products(米)、Linde(独)、Air Liquide(仏・Air Liquide Semiconductor)、Merck(独・Versum Materials)が世界市場を寡占しています。日本ではレゾナック(旧昭和電工)・大陽日酸が主要サプライヤーです。NF₃は三菱ケミカル・昭和電工が世界的シェアを持ちます。

メーカー

5社の主要メーカー

Air Products米国

産業ガス・特殊ガスの世界大手。半導体向けにはWF₆・NF₃・GeH₄・特殊エッチングガスなど、成膜・エッチング・クリーニングの全工程を支える。

エッチングガス
NF₃F₂HF
成膜ガス
WF₆GeH₄NH₃
クリーニングガス
C₂F₆CF₄
  • 半導体向け特殊ガスのグローバルトップサプライヤー
  • Fabオンサイト供給システムによる安定ガス供給
Merck KGaA(半導体材料)ドイツ

ドイツの特殊化学・製薬大手Merck KGaAの半導体材料部門。ALD前駆体・高誘電材料・フォトマスクブランクス・液晶など先端材料を供給。

ALD前駆体
High-k誘電体材料メタルゲート前駆体
フォトマスク材料
マスクブランクス
特殊ガス
プロセスガスエッチングガス
  • ALD/CVD前駆体(High-k・メタルゲート材料)のグローバルリーダー
  • フォトマスクブランクスの主要サプライヤー
Entegris米国

半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア(FOUP)・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。

CMPスラリー・パッド
Optima CMPスラリー研磨パッド
フィルタ・精製装置
超純水フィルタガス精製器
ウェハ搬送材料
FOUPウェハシッパー
  • 半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ(CMC Materials統合後)
  • 超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
エア・リキード(半導体)FR

フランスの産業ガス世界大手。半導体製造に使われる超高純度特殊ガス(フッ素・NF3・N2O・H2など)を供給。Lindeと並ぶ二大電子材料ガスメーカーの一角。

特殊ガス
NF3(チャンバークリーニング)超高純度F2N2OWF6
  • 超高純度NF3(クリーニングガス)・フッ素・希少ガス供給で世界トップ
  • Air Products・Lindeと並ぶ産業ガス三強の一角
エア・ウォーター日本

産業ガスを中核とする国内大手。窒素・酸素・水素などのバルクガスに加え、半導体プロセス向けの各種特殊ガスや、オンサイト供給設備・ガス供給配管システムを手掛ける。

産業ガス
高純度窒素水素アルゴン
特殊ガス・設備
半導体用特殊ガスオンサイト供給設備ガス供給配管
  • バルクガスと特殊ガスの両方を供給
  • オンサイト発生設備によるファブ向け供給体制

関連カテゴリ

ALD/CVD前駆体材料
ボンディング材料
CMPスラリー
EUVレジスト
High-k絶縁膜
Low-k絶縁膜
フォトマスクブランクス
フォトレジスト
半導体材料

関連用語

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