ステッパ（Stepper）は、フォトマスク（レチクル）の回路パターンを縮小投影レンズでウェハ上の1区画（ショット）に露光し、ウェハを少しずつ動かしながら同じ露光を繰り返す「ステップ・アンド・リピート」方式の露光装置です。1980年代以降のリソグラフィの主役となり、微細化を牽引してきました。
ステッパは通常、レチクルのパターンを1/4や1/5に縮小して転写します。これによりレチクル製造の負担を軽減しつつ微細パターンを形成できます。光源はi線（365nm）・KrF（248nm）・ArF（193nm）などが用途に応じて使われます。
現在の最先端では、レチクルとウェハを同期して走査しながら露光する「ステップ・アンド・スキャン」方式のスキャナが主流ですが、ステッパは成熟ノードや特定用途で今も使われます。ステッパとスキャナの違いは、1ショットを一括露光するか走査露光するかにあります。
装置はニコン・キヤノン・ASMLが主要メーカーです。scannerやi-line-stepper、immersion-lithography、lithography-equipmentの各項とあわせて読むと、露光装置の方式と世代の違いが体系的に理解できます。
