Yield Engineering Systems(YES)/ベーク・UVキュア装置

VertaCure™ XP

YES の VertaCure シリーズの高温真空キュア炉。先端パッケージの量産ラインで使われている。

VertaCure XPとは

VertaCure XP は、Yield Engineering Systems(YES)のポリイミド真空キュア用の量産自動システムです。200mm/300mm ウェーハを扱い、Class 1 のミニエンバイロメント内で最大 2 つのプロセスモジュールを自動で運用します。1PM 構成で 50 枚、2PM 構成で 100 枚を処理します。

真空キュアは大気圧キュアに比べ、処理時間が 8 時間超から 3.5 時間に短くなり、層流でパーティクルを減らし、アウトガスが 5 分の 1 になるほど完全にキュアでき、膜応力とウェーハの反りも小さくなります。電力と N₂ の消費も 1.6〜2 倍少なく、CoO は 2〜3 倍低いとしています。

最高温度は 450°C、400°C までのウェーハ面内温度均一性は 1% 以下、O₂ 濃度は 10ppm 未満です。稼働率 95% 以上、MTTR 4 時間以下で、SECS/GEM に対応します。用途はポリイミド・BCB・PBO のキュア、低温ポリマーキュア、銅アニール、ウェーハ接合後のアニールです。

主な特長

  • •真空キュアで処理時間 3.5 時間(大気圧は 8 時間超)
  • •1PM 50 枚/2PM 100 枚、Class 1 ミニエンバイロメント
  • •最高 450°C、面内均一性 1% 以下、O₂ 10ppm 未満
  • •稼働率 95% 以上

主な仕様

方式全自動・真空キュア炉(バッチ)
対応ウェハ径200 mm/300 mm
温度常温 ~ 450 ℃
主要用途先端パッケージのポリマー膜キュア

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目Yield Engineering Systems(YES)VertaCure™ G3Yield Engineering Systems(YES)VertaCure™ XP
方式全自動・真空キュア炉(バッチ)全自動・真空キュア炉(バッチ)
対応ウェハ径200 mm/300 mm(FOUP to FOUP)200 mm/300 mm
温度常温 ~ 450 ℃・200 ℃超で ±1 ℃常温 ~ 450 ℃
主要用途RDL のポリイミド多層キュア・Cu アニール先端パッケージのポリマー膜キュア

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •ポリイミド・BCB・PBO のキュア(先端パッケージの再配線層など)
  • •銅アニール・ウェーハ接合後アニール

掲載カテゴリ

VertaCure XPは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Yield Engineering Systems(YES)

米国カリフォルニア州の装置メーカー。ポリイミドや PBO などの有機絶縁膜を低酸素・真空雰囲気で硬化させるキュア炉「VertaCure」、真空アニール・リフロー装置「VeroTherm」などを手がけ、ウェハレベル/パネルレベルパッケージ向けの熱処理装置を供給する。

Yield Engineering Systems(YES) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

関連用語

出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
半導体製造装置の製品一覧へ →