ベーク・UVキュア装置メーカー5社
ベーク・UVキュア装置は、塗布した膜を加熱または紫外線照射によって硬化・安定化させる装置です。レジスト工程ではプリベークで溶媒を除去し、露光後ベーク（PEB）で化学増幅反応を進め、ポストベークで耐エッチング性を高めます。ポリイミドやLow-k膜ではUVキュアによって架橋を進め、機械強度と誘電率を作り込みます。温度の絶対値だけでなく昇降温プロファイルと面内均一性が膜質を決めるため、ホットプレートの温度分布管理が装置性能の核心になります。
主要特徴
メーカー
5社の主要メーカー
産業用・半導体製造向け光源装置の日本大手。UV・DUV露光光源、ランプ式露光装置、UV硬化システムを手がける光技術の総合メーカー。
- •半導体露光用水銀ランプ・エキシマランプで国内トップ
- •UV硬化・表面処理向け光源の幅広いラインナップ
フォトレジスト専業の老舗メーカー。KrF〜ArF〜EUVと各世代のレジスト開発を継続し、現像液・洗浄剤などのプロセス薬品も手がける。
- •フォトレジスト専業メーカーとして70年超の実績
- •KrF〜EUV全世代対応のレジスト開発力
米国カリフォルニア州の装置メーカー。ポリイミドや PBO などの有機絶縁膜を低酸素・真空雰囲気で硬化させるキュア炉「VertaCure」、真空アニール・リフロー装置「VeroTherm」などを手がけ、ウェハレベル／パネルレベルパッケージ向けの熱処理装置を供給する。
- •ポリイミドキュアに特化した真空キュア炉
- •ウェハレベル・パネルレベル双方への対応
リソグラフィ工程の装置とレジスト評価技術を手がける。レジストの塗布・現像・ベークを行う自動機とマニュアル機、枚葉式／バッチ式のベーク装置を製造するほか、レジスト評価用の測定装置や受託評価も提供する。
- •塗布・現像・ベークを揃えた研究開発向け装置
- •枚葉式とバッチ式のベーク装置
各種工業用ヒーターと加熱機器のメーカー。ウエハや基板を加熱するホットプレート、流体加熱器、液晶・半導体関連機器を製造するほか、膜厚測定装置や応力測定装置なども扱う。
- •工業用ヒーターを自社で設計・製造
- •ウエハ加熱向けホットプレート
関連カテゴリ
コーター/デベロッパ（Coater/Developer）は、フォトリソグラフィ工程でレジスト塗布（コーティング）と露光後の現像（デベロップ）を行う一体型装置です。
メーカー 7 社DUV露光装置DUV露光装置（Deep Ultraviolet Lithography）は、ArFエキシマレーザー（193nm）またはKrFエキシマレーザー（248nm）を光源とした露光装置です。
メーカー 5 社電子ビーム直接描画装置電子ビーム直接描画装置は、マスクを使わず電子ビームでウェハへ直接パターンを描く露光装置です。
メーカー 4 社EUV露光装置EUV露光装置（Extreme Ultraviolet Lithography）は、波長13.5nmの極端紫外線を使用してウェハ上に超微細回路パターンを転写する露光装置です。
メーカー 2 社i線ステッパーi線ステッパー（i-line Stepper）は、水銀ランプのi線（波長365nm）を光源とする露光装置で、0.18μm以上の成熟ノードの半導体製造に現在も広く使用されています。
メーカー 3 社レーザー直接描画装置レーザー直接描画装置（LDI／マスクレス露光装置）は、マスクを介さずレーザー光を走査してパターンを描く露光装置です。
メーカー 3 社マスクアライナーマスクアライナーは、マスクとウェハを直接向かい合わせ、等倍でパターンを一括転写する露光装置です。
メーカー 3 社ナノインプリントリソグラフィ（NIL）ナノインプリントリソグラフィ（NIL：Nanoimprint Lithography）は、マスク（テンプレート）のナノ構造パターンを紫外線硬化樹脂などの材料に直接押し付けてパターンを転写するリソグラフィ技術です。
メーカー 3 社