結論：ArF露光（193nm）とKrF露光（248nm）の違いは？
ArF露光とKrF露光の最大の違いは「光源の波長」です。ArFはフッ化アルゴンエキシマレーザーの193nmで、投影レンズとウェハの間に純水を挿入する液浸（ArFi）で実効NA>1を実現し、45nm〜20nmノード、マルチパターニング併用で7nm前後まで対応します。KrFはフッ化クリプトンの248nmで液浸には非対応、250nm〜130nmの成熟ノードや先端デバイスの非クリティカル層で現役です。
比較表
ArF露光（193nm）KrF露光（248nm）
| 観点 | ArF露光（193nm） | KrF露光（248nm） |
|---|---|---|
| 光源レーザー・波長 | フッ化アルゴン（ArF）エキシマレーザー：193nm | フッ化クリプトン（KrF）エキシマレーザー：248nm |
| 液浸露光 | ArFi（液浸）：投影レンズ-ウェハ間に純水（n=1.44）を挿入し実効NA>1を実現 | 液浸非対応（ドライ露光のみ） |
| 解像度（目安） | ドライ：90nm前後、ArFi液浸：45nm〜20nmノード対応（マルチパターニング併用で7nm前後まで） | 250nm〜130nm前後が主な適用ノード |
| 適用ノード | 先端ロジック（7nm〜）・DRAM・NAND（クリティカル/一部非クリティカル層） | 成熟ノード（250nm〜130nm）・先端デバイスの非クリティカル層 |
| マルチパターニング | SADP/SAQP・LELELE等と組合せ微細化。EUV普及後も補完的に大量使用 | 主に単一または二重露光（LELE）程度で使用 |
| フォトレジスト | 化学増幅型ArFレジスト（CAR）・EUVとは別設計 | 化学増幅型KrFレジスト（CAR） |
| 代表装置メーカー | ASML（NXTシリーズ：NXT:2100i等）・ニコン（NSRシリーズ）・キヤノン（FPA-8300iZ等） | ASML（PAS 5500シリーズ）・ニコン・キヤノン |
| 装置価格（目安） | ArFi液浸機：数十億円〜100億円超（機種・仕様で大幅に異なる） | ArFより相対的に低価格。中古市場でも流通 |
EUV普及後もArFとKrFが現役な理由
EUVはゲート・コンタクト・ビアなどクリティカル層に集中投入されますが、1枚のウェハを完成させるには100工程以上の露光が必要で、その多くはArFやKrFで担われます。先端3nmロジックでもEUV使用はせいぜい全露光工程の20〜30%程度とされており、残りはArFi（多重露光）とKrFです。コスト・スループット・装置台数の観点からも、ArFとKrFは今後も半導体ファブの主力装置であり続けます。
ArFiとは何か：液浸ArF露光の仕組み
ArFi（ArF液浸）は、投影レンズとウェハの間に屈折率n=1.44の純水を充填することで、空気中（n=1.0）より高いNAを実現する露光技術です。NAはn×sinθで決まるため、純水中では同じレンズ角度でも解像度が44%向上します。ASMLのNXT:2100iはNA=1.35で、300WPH超のスループットを実現しています。ArFiはSADPやSAQPと組み合わせると7nmノード前後まで対応でき、EUVが普及した現在もロジック・DRAM・NANDの主力露光技術です。