比較最後更新 2026年10月8日

SiC與GaN功率半導體的差異

SiC(碳化矽)與GaN(氮化鎵)同為超越矽的寬能隙半導體,但擅長的電壓範圍、頻段與用途各不相同。SiC的優勢在於高耐壓與高溫運作,是電動車主驅動逆變器的主流選擇;GaN則以高速切換與低導通電阻見長,最適合充電器、5G基地台與資料中心電源。

Verdict結論

SiC與GaN最大的差異在於「擅長的耐壓範圍與頻段」。SiC擅長650V~10kV(主流為1200~1700V)的高耐壓與高溫運作,是電動車主驅動逆變器的主流選擇。GaN在100V~650V(主流為650V以下)的低耐壓範圍導通電阻極低,可實現數MHz~數十MHz的超高速切換,最適合快速充電器、5G基地台與資料中心電源。

主要差異

SiC(碳化矽)與GaN(氮化鎵)依比較面向比較
比較面向SiC(碳化矽)GaN(氮化鎵)
能隙3.26eV(約為Si的3倍)3.4eV(約為Si的3倍)
主要耐壓範圍650V~10kV(主流為1200~1700V)100V~650V(主流為650V以下)
切換速度高速(數百kHz)超高速(數MHz~數十MHz)
導通電阻(比較)低(在高耐壓範圍比GaN有利)非常低(在低耐壓範圍比SiC有利)
耐熱溫度200℃以上(耐高溫環境)約150℃以下(低於SiC)
基板材料SiC塊材晶圓(高成本)以矽基板上GaN(GaN-on-Si)為主流,成本低
主要用途電動車主驅動逆變器、工業設備、鐵路電動車快速充電器、資料中心電源、5G、家電
晶圓成本高(以150mm為主流,正轉向200mm)低(沿用Si基板,支援200~300mm)
主要廠商Wolfspeed・羅姆・英飛凌・意法半導體・三菱電機GaN Systems・英飛凌・MACOM・EPC・德州儀器
市場規模(2025年預測)約30億美元以上(快速擴大中)約20億美元(快速擴大中)

為什麼電動車主驅動選擇SiC

電動車主驅動馬達用的逆變器在400~800V系統下運作,需處理數百安培的電流。在此耐壓範圍內,SiC的導通電阻遠低於Si,切換損耗也小,因此能直接提升電池到馬達之間的轉換效率(續航距離改善5~10%)。Tesla Model 3(採用羅姆製SiC)開拓了市場,目前比亞迪(BYD)、豐田、現代也在擴大採用。

GaN打入快速充電器與資料中心的原因

GaN可將切換頻率提高到數MHz以上,因此能大幅縮小變壓器與電容器。在65W~140W級的筆記型電腦・手機充電器中,採用GaN的產品快速增加,相較於傳統Si晶片可減少50~70%的體積。資料中心的PSU(電源供應器)在48V→12V轉換上也逐漸採用GaN,藉由提升功率密度,有助於降低機櫃冷卻成本。

製造製程與供應鏈的差異

SiC元件需要SiC磊晶成長→離子佈植(高能量・高溫退火)→氧化膜形成等特殊製程。SiC晶圓由Wolfspeed、Coherent(前身為II-VI)、羅姆、昭和電工(現Resonac)供應。GaN-on-Si可轉用Si晶圓廠生產,台積電(TSMC)也已投入GaN代工,製造成本持續下降。

常見問題

SiC與GaN哪一個比較有前景?
兩者用途不同,並非「二選一」的關係。要求高耐壓・高溫的電動車主驅動與工業逆變器,SiC將維持優勢;而充電器、電源與高頻應用則由GaN快速普及。預估兩者合計在2030年的市場規模將超過100億美元,可望持續共存成長。
為什麼SiC晶圓比GaN昂貴?
SiC在自然界中不存在,需以1400℃以上的昇華法(Lely法)製造,晶體成長耗時。此外SiC硬度高,堪比鑽石,因此加工成本也高。相對地,GaN-on-Si可在既有的200~300mm矽晶圓上進行磊晶成長,成本大幅降低。
日本有哪些SiC・GaN半導體廠商?
SiC方面,羅姆是日本國內最大廠,從SiC磊晶晶圓到成品元件一貫生產。三菱電機、富士電機、東芝電子元件也在工業與鐵路應用上具有優勢。GaN方面,住友電氣工業與古河電氣工業在化合物半導體材料領域具有全球地位。

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