SEMICONDUCTOR EQUIPMENT

クリーンルーム設備メーカー3社

クリーンルーム設備は、半導体製造において最大の歩留まり阻害要因であるパーティクル（微粒子）を徹底的に除去・制御するための空調・ろ過・気流制御システムです。ULPA/HEPAフィルタによる一方向気流、温湿度精密制御、陽圧維持、静電対策などを組み合わせ、ISO Class 1〜5（旧Class 1〜100）の超高清浄環境を実現します。先端プロセスではウェハを収納するSMIF/FOUPミニエンバイロメントと組み合わせ、局所的にさらに清浄度を高める設計が標準化しています。

メーカー 3 社関連カテゴリ 4 件

主要特徴

ULPA/HEPAフィルタと一方向気流で微粒子を除去・制御

ISO Class 1〜5（旧Class 1〜100）の超高清浄環境を維持

温湿度・陽圧・静電気の精密制御で製造品質を保証

SMIF/FOUPミニエンバイロメントと組み合わせ、局所清浄度を強化

建設コストは半導体ファブ総投資の大きな割合を占める基幹インフラ

代表製品・スペック

製品写真

Entegris

FOUP（フープ）

EntegrisのFront Opening Unified Pod。300mmウェハを汚染・破損から保護しながらクリーンルーム内を搬送するウェハキャリア。

規格	SEMI E47.1・SEMI E62 準拠
収容ウェハ枚数	最大 25 枚（300mm）
材質	ポリカーボネート（PC）/ PFA
清浄度	内部パーティクル発生 < 0.1個/ウェハ
主要用途	クリーンルーム内ウェハ保管・搬送・プロセス間移動

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MKS Instruments

MFC（マスフローコントローラー）

MKS Instrumentsのガス流量制御装置。成膜・エッチング・洗浄の各プロセスガスを高精度に制御する。

制御精度	±0.5% FS 以内
対応ガス	SiH₄・NH₃・N₂・Ar・O₂・HF 等各種プロセスガス
対応圧力	最大 150 psia
レスポンス速度	< 100 ms（63%応答）
通信規格	RS-232・DeviceNet・EtherCAT 対応

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※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。