クリーンルーム設備メーカー3社
クリーンルーム設備は、半導体製造において最大の歩留まり阻害要因であるパーティクル（微粒子）を徹底的に除去・制御するための空調・ろ過・気流制御システムです。ULPA/HEPAフィルタによる一方向気流、温湿度精密制御、陽圧維持、静電対策などを組み合わせ、ISO Class 1〜5（旧Class 1〜100）の超高清浄環境を実現します。先端プロセスではウェハを収納するSMIF/FOUPミニエンバイロメントと組み合わせ、局所的にさらに清浄度を高める設計が標準化しています。
主要特徴
代表製品・スペック
| 流量範囲 | 5 ～ 50,000 sccm |
| 精度 | 設定値の 1%（校正ガス） |
| 応答 | 典型 500 ms、整定 750 ms 未満 |
| 通信 | EtherCAT・DeviceNet・Profibus・PROFINET・RS485／アナログ |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
3社の主要メーカー
半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア（FOUP）・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。
- •半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ（CMC Materials統合後）
- •超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
半導体製造装置向けサブシステム・部品・洗浄サービスのアウトソーシング専業企業。AMAT・Lam Research・ASMLなど大手OEMを主要顧客に持つ。
- •主要装置OEM向けガス流路モジュールのトップサプライヤー
- •チャンバー部品の精密加工・洗浄再生サービス
ガス流量制御・圧力制御・RFパワー・プラズマ源など、半導体製造プロセスを支えるサブシステム機器の主要メーカー。Newport光学部門も保有。
- •マスフローコントローラ（MFC）でグローバルリーダー
- •RF電力供給・圧力制御・真空計測の統合ソリューション
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