SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
超純水製造システムメーカー2社
超純水(UPW:Ultrapure Water)製造システムは、半導体ウェハの洗浄工程で使用する水を超高純度に精製するファブインフラ設備です。逆浸透膜(RO)・イオン交換樹脂・UV照射・限外ろ過膜(UF)などの多段処理により、比抵抗18.2MΩ·cm(25°C)、TOC(全有機炭素)0.1ppb以下、微粒子・微生物ゼロの水質を達成します。ウェハ洗浄での汚染源となる金属イオン・有機物・微粒子を除去し、歩留まりと信頼性を直接支えます。先端ファブでは1日あたり数千トンの超純水を消費するケースもあり、回収・再利用(リサイクル)システムとの組み合わせによる水資源の持続可能な利用が重要課題となっています。
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