超純水製造システムメーカー4社
超純水（UPW：Ultrapure Water）製造システムは、半導体ウェハの洗浄工程で使用する水を超高純度に精製するファブインフラ設備です。逆浸透膜（RO）・イオン交換樹脂・UV照射・限外ろ過膜（UF）などの多段処理により、比抵抗18.2MΩ·cm（25°C）、TOC（全有機炭素）0.1ppb以下、微粒子・微生物ゼロの水質を達成します。ウェハ洗浄での汚染源となる金属イオン・有機物・微粒子を除去し、歩留まりと信頼性を直接支えます。先端ファブでは1日あたり数千トンの超純水を消費するケースもあり、回収・再利用（リサイクル）システムとの組み合わせによる水資源の持続可能な利用が重要課題となっています。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | オルガノ超純水製造システム・機能水製造システム | 野村マイクロ・サイエンス超純水製造装置 |
|---|---|---|
| 構成 | 超純水製造装置（顧客仕様の設計）・機能水製造装置 | TOC-UV・イオン交換・UF 膜ほか（カスタム設計） |
| 主要用途 | 半導体・液晶工場のウェーハ洗浄水 | 半導体・FPD 基板の洗浄水 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
代表製品・スペック
超純水製造システム・機能水製造システム
半導体・液晶の洗浄用超純水と、超純水技術を応用した機能水の製造装置。
| 構成 | 超純水製造装置（顧客仕様の設計）・機能水製造装置 |
| 主要用途 | 半導体・液晶工場のウェーハ洗浄水 |
超純水製造装置
要求純度・水量に合わせてカスタム設計する野村マイクロ・サイエンスの超純水製造装置。
| 構成 | TOC-UV・イオン交換・UF 膜ほか（カスタム設計） |
| 主要用途 | 半導体・FPD 基板の洗浄水 |
※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
メーカー
4社の主要メーカー
半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア（FOUP）・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。
- •半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ（CMC Materials統合後）
- •超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
半導体製造装置向けサブシステム・部品・洗浄サービスのアウトソーシング専業企業。AMAT・Lam Research・ASMLなど大手OEMを主要顧客に持つ。
- •主要装置OEM向けガス流路モジュールのトップサプライヤー
- •チャンバー部品の精密加工・洗浄再生サービス
水処理エンジニアリングの大手。超純水製造装置と排水回収システムに加え、洗浄工程で使うオゾン水・水素水などの機能水生成装置を供給する。
- •超純水製造装置で国内トップクラス
- •オゾン水・水素水など機能水の生成技術
超純水製造装置の専業メーカー。半導体・液晶パネル工場向けに超純水製造システムの設計・施工とメンテナンスを行い、使用済み水の回収・排水処理設備も手がける。国内に加え韓国・台湾・中国の工場への納入実績を持つ。
- •超純水に特化した専業メーカー
- •設計・施工からメンテナンスまで一貫対応
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