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排ガス処理装置(アバトメント)メーカー4

排ガス処理装置(アバトメントシステム)は、半導体製造プロセスで発生する有害副生成物・未反応ガスを大気放出前に無害化する環境・安全設備です。燃焼分解型(POU Combustion)・プラズマ分解型・湿式吸収型・触媒酸化型などの方式があり、対象ガスの種類(PFC・シラン・ハロゲン系ガス・有機物)に応じて使い分けます。PFC(パーフルオロカーボン)ガスは地球温暖化係数(GWP)が極めて高く、半導体メーカーの環境規制対応として排出削減が義務化されています。各製造装置の排気出口に設置するPOU(Point-of-Use)方式が主流で、処理効率・エネルギー消費・ランニングコストのバランスが設備選定の重要指標です。EHS(環境・健康・安全)コンプライアンスと運用コスト削減の双方に貢献します。

メーカー 4関連カテゴリ 4

メーカー

4社の主要メーカー

Edwards Vacuum(Atlas Copco傘下)GB

半導体ファブ向け真空ポンプ・排気処理(アベートメント)システムの世界大手。ドライポンプ・ブースターポンプ・PFASフリー排ガス処理まで一貫提供し、ファブのインフラを支える。

ドライ真空ポンプ
iXH/iXL seriesGXS series
排気処理装置
SIRIUSスクラバーFLARESシリーズ
ブースターポンプ
EH/EPX series
  • ドライ真空ポンプで世界最大手
  • 排気処理(アベートメント)システムに強み
カンケンテクノ日本

半導体・FPD製造の排ガス処理装置メーカー。シラン・フッ素系ガス・PFCなどのプロセス排ガスを燃焼・プラズマ・湿式で無害化する除害装置(スクラバー)を供給する。

排ガス処理装置
除害装置(スクラバー)PFC分解装置
  • 除害装置(スクラバー)の専業メーカー
  • 燃焼式・プラズマ式・湿式の方式を網羅
荏原製作所日本

CMP(化学機械研磨)装置と半導体製造用真空ポンプ・除害装置の大手。ポンプ・精密機械・環境事業を軸に、半導体製造インフラを幅広く支える。

CMP装置
FREX(300mm CMP)F-REX(先端CMP)
真空ポンプ
EV-Aシリーズ(ドライ真空)除害装置
  • CMPシステムで世界シェア上位。前工程の平坦化プロセスに不可欠
  • ドライ真空ポンプ・スクラバーでクリーンルームの排気・除害を担う
エア・リキード(Air Liquide)FR

産業ガス・特殊ガスのグローバル大手メーカー。半導体製造に不可欠な高純度プロセスガス(成膜・エッチング用)とガス供給インフラを世界的に展開する。

特殊ガス
高純度プロセスガスガス供給インフラ
  • 特殊ガスでグローバルトップクラス
  • 高純度ガス供給インフラに強み

関連カテゴリ

薬液供給システム
クリーンルーム設備
工場設備
超純水製造システム

関連用語

除害装置(スクラバー)とは →ファブインフラとは →クリーンルームとは →ウェハ搬送とは →ドライ真空ポンプとは →ターボ分子ポンプ(TMP)とは →クライオポンプとは →真空計とは →ゲートバルブ/スリットバルブとは →ロードロック室とは →マスフローコントローラ(MFC)とは →ガスボックス(ガスパネル)とは →

比較・違いを学ぶ

ドライ真空ポンプとターボ分子ポンプの違い
半導体製造装置の排気系は、大気圧から超高真空まで10桁以上の圧力範囲をカバーしなければなりません。単一のポンプでこれを賄うことはできないため、粗引きを担うドライ
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