薬液供給システムメーカー6社

薬液供給システム(Chemical Delivery System)は、ウェハ洗浄・エッチング・CMP・フォトレジスト塗布など前工程の各装置に、高純度薬液(HF・硫酸・SC-1/SC-2洗浄液・現像液など)を精密に計量・混合して供給するファブインフラ設備です。薬液の濃度・温度・流量・清浄度をリアルタイムで管理し、プロセス再現性と安全性を確保します。PFA・PVDFなど耐薬品性材料の供給配管と、タンクの漏洩検知・緊急遮断システムがEHS対応上重要です。ポイントオブユース(POU)ブレンディング方式により、多品種少量プロセスへの柔軟な対応と薬液廃棄量の削減を実現します。薬液品質の安定性が直接製造歩留まりに影響するため、センサー・制御システムとの統合管理が求められます。

メーカー 6 社同じ分野の装置 9 カテゴリ
掲載する

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目エア・ウォーター特殊ケミカル供給装置EntegrisFluoroPure® 容器/Sentry® クイックコネクトKLAQuali-Line® Prima® 2KLAQualiSurf®
主要用途成膜装置等への高純度ケミカル供給バルク薬液の汚染なき供給先端ノードの Cu めっき—
供給対象特殊ケミカル(毒性・可燃・腐食性材料を含む)高純度液体薬液——
構成供給装置・蒸気量制御用の恒温槽ほかフッ素樹脂容器・中間バルク容器・クイックコネクト——
方式——オンライン薬液分析・管理オンライン薬液監視(15 以上の分析法)
対象——銅ダマシンめっき液(低・超低・高 Cu 濃度)FEOL・MOL・BEOL のウェットエッチング・洗浄
1機種だけが掲載している項目(1件)
特徴———自動校正・検証・自己診断

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

代表製品・スペック

製品写真
エア・ウォーター

特殊ケミカル供給装置

前工程や化合物半導体で使う特殊ケミカルを製造装置へ安全・安定に送る供給装置。ケミカルの性状に合わせた仕様をそろえる。

供給対象特殊ケミカル(毒性・可燃・腐食性材料を含む)
構成供給装置・蒸気量制御用の恒温槽ほか
主要用途成膜装置等への高純度ケミカル供給
製品写真
Entegris

FluoroPure® 容器/Sentry® クイックコネクト

高純度薬液の純度を保ったまま保管・搬送・接続するための Entegris の容器と接続システム。

供給対象高純度液体薬液
構成フッ素樹脂容器・中間バルク容器・クイックコネクト
主要用途バルク薬液の汚染なき供給
製品写真
KLA

Quali-Line® Prima® 2

銅ダマシンのめっき液をオンラインで分析・管理するシステム。

方式オンライン薬液分析・管理
対象銅ダマシンめっき液(低・超低・高 Cu 濃度)
主要用途先端ノードの Cu めっき
製品写真
KLA

QualiSurf®

ウェットエッチング・洗浄の薬液を 15 以上の分析法でオンライン監視するシステム。

方式オンライン薬液監視(15 以上の分析法)
対象FEOL・MOL・BEOL のウェットエッチング・洗浄
特徴自動校正・検証・自己診断

※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

メーカー

6社の主要メーカー

Entegris米国

半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア(FOUP)・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。

CMPスラリー・パッド
Optima CMPスラリー研磨パッド
フィルタ・精製装置
超純水フィルタガス精製器
ウェハ搬送材料
FOUPウェハシッパー
  • •半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ(CMC Materials統合後)
  • •超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
会社詳細
CKD日本

空圧・流体制御機器の大手。半導体分野では超高純度ガス用バルブ、薬液用の耐薬品バルブ・ポンプ、ガスユニットを供給し、装置内の流体制御を支える。

流体制御機器
高純度ガスバルブ薬液用バルブ・ポンプガスユニット
  • •空圧機器と流体制御機器の総合ラインナップ
  • •半導体向け高純度・耐薬品バルブ
会社詳細
栗田工業日本

水処理・超純水製造装置の国内大手メーカー。半導体ファブ向けの超純水(UPW)製造システムを中心に、排水処理まで一貫した水処理ソリューションを提供する。

ファブインフラ設備
超純水製造装置(UPWシステム)排水処理システム
  • •超純水製造装置で国内トップクラス
  • •半導体ファブ向け水処理インフラに強み
会社詳細
Ultra Clean Holdings(UCT)米国

半導体製造装置向けサブシステム・部品・洗浄サービスのアウトソーシング専業企業。AMAT・Lam Research・ASMLなど大手OEMを主要顧客に持つ。

ガス供給サブシステム
ガスパネルガスボックス
チャンバー部品
プロセスキットリングアセンブリ
  • •主要装置OEM向けガス流路モジュールのトップサプライヤー
  • •チャンバー部品の精密加工・洗浄再生サービス
会社詳細
エア・ウォーター日本

産業ガスを中核とする国内大手。窒素・酸素・水素などのバルクガスに加え、半導体プロセス向けの各種特殊ガスや、オンサイト供給設備・ガス供給配管システムを手掛ける。

産業ガス
高純度窒素水素アルゴン
特殊ガス・設備
半導体用特殊ガスオンサイト供給設備ガス供給配管
  • •バルクガスと特殊ガスの両方を供給
  • •オンサイト発生設備によるファブ向け供給体制
会社詳細
KLA米国

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

検査装置
ウェーハ検査システムマスク検査装置
計測装置
CD計測膜厚計測オーバーレイ計測
データ分析
aiSIGHTKlarity
  • •検査・計測装置における世界的リーダー
  • •AI・データ分析を統合した先端プロセスコントロール
会社詳細

同じ分野の装置カテゴリ

排ガス処理装置(アバトメント)

排ガス処理装置(アバトメントシステム)は、半導体製造プロセスで発生する有害副生成物・未反応ガスを大気放出前に無害化する環境・安全設備です。

メーカー 5 社
クリーンルーム部材

クリーンルーム部材は、建屋そのものではなく、清浄度を実際に作り出して維持する部材のカテゴリです。

メーカー 8 社
クリーンルーム設備

クリーンルーム設備は、半導体製造において最大の歩留まり阻害要因であるパーティクル(微粒子)を徹底的に除去・制御するための空調・ろ過・気流制御システムです。

メーカー 3 社
工場設備

ファブ設備は、半導体工場の安定稼働を支える電力・超純水(UPW)・特殊ガス・薬液・排気・排水処理などの総合インフラ設備群です。

メーカー 5 社
ガス供給・検知システム

ガス供給・検知システムは、ファブ全体へガスを届け、その純度と安全を守る設備のカテゴリです。

メーカー 7 社
高純度配管・工事

高純度配管・工事は、超純水・薬液・特殊ガスをファブ内の各装置へ届ける配管系統の施工技術です。

メーカー 5 社
シールドルーム・防振建屋

シールドルーム・防振建屋は、電磁ノイズと振動という外乱から精密装置を守るための構造設備です。

メーカー 3 社
超純水製造システム

超純水(UPW:Ultrapure Water)製造システムは、半導体ウェハの洗浄工程で使用する水を超高純度に精製するファブインフラ設備です。

メーカー 4 社
廃水処理設備

廃水処理設備は、洗浄・エッチング・CMPで生じた排水を、法規制値まで処理してから放流または再利用するための設備です。

メーカー 3 社

関連用語

比較・違いを学ぶ

ドライ真空ポンプとターボ分子ポンプの違い
半導体製造装置の排気系は、大気圧から超高真空まで10桁以上の圧力範囲をカバーしなければなりません。単一のポンプでこれを賄うことはできないため、粗引きを担うドライ…
→
← 半導体装置カテゴリ一覧に戻る