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Entegris

半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア(FOUP)・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。

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当サイトでの位置づけ

Semiraiの材料インテグリティカテゴリでは、ウェハキャリア・CMPスラリー・フィルタ・ガス精製装置を通じてプロセス汚染防止の要として参照されます。

企業の強み

半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ(CMC Materials統合後)
超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
FOUP・ウェハシッパーなどウェハ保護材料で業界標準

主要製品・ソリューション

CMPスラリー・パッド

  • Optima CMPスラリー
  • 研磨パッド

フィルタ・精製装置

  • 超純水フィルタ
  • ガス精製器

ウェハ搬送材料

  • FOUP
  • ウェハシッパー

関連装置カテゴリ

材料・薬品
CMPスラリー・材料
ファブインフラ
CMP装置関連
ウェハキャリア・FOUP
ガス供給・流量制御(MFC)

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、Entegrisを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

CMP(化学機械研磨)とは →枚葉式洗浄(シングルウェハ洗浄)とは →ガス精製器・ガスフィルタとは →FOSB(ウェハ出荷容器)とは →Oリング・シール材とは →スクラッチ(CMP傷)とは →金属汚染(メタルコンタミネーション)とは →

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フォトマスクとは →ファブインフラ設備とは →ALD(原子層堆積)とは →クリーンルームとは →CVD(化学気相成長)とは →ウェハ搬送・自動化とは →フォトレジストとは →EUVレジストとは →

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比較・違いを学ぶ

ALDとCVDの違い(原子層成膜 vs 化学気相成膜)
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