当サイトでの位置づけ
Semiraiの材料インテグリティカテゴリでは、ウェハキャリア・CMPスラリー・フィルタ・ガス精製装置を通じてプロセス汚染防止の要として参照されます。
企業の強み
半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ（CMC Materials統合後）
超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
FOUP・ウェハシッパーなどウェハ保護材料で業界標準
主要製品・ソリューション
CMPスラリー・パッド
- •Optima CMPスラリー
- •研磨パッド
フィルタ・精製装置
- •超純水フィルタ
- •ガス精製器
ウェハ搬送材料
- •FOUP
- •ウェハシッパー
Entegrisの製品
関連装置カテゴリ
材料・薬品
半導体材料は、製造プロセスの各工程で使用される化学物質・消耗材料の総称です。
メーカー 12 社CMPスラリー・材料CMPスラリーは、化学機械研磨（CMP）工程で使用される研磨砥粒と化学反応剤を含むコロイド状の研磨液です。
メーカー 5 社ファブインフラファブインフラ設備は、半導体製造装置本体の外側で、工場（ファブ）全体の稼働を支える基盤設備群を指します。
メーカー 10 社CMP装置関連CMP（Chemical Mechanical Planarization：化学機械研磨）装置は、化学的作用と機械的研磨を組み合わせてウェハ表面の凹凸をナノメートル単位まで平坦化する前工程の中核装置です。
メーカー 6 社ウェハキャリア・FOUPウェハキャリア・FOUP・EFEMは、ウェハを清浄な環境で保管・搬送し、装置内へ受け渡すインターフェース部材/サブシステムです。
メーカー 9 社ガス供給・流量制御（MFC）ガス供給・流量制御系は、プロセスガスや特殊材料ガスを決められた流量・圧力でチャンバへ届けるサブシステムです。
メーカー 8 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、Entegrisを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
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先端半導体材料（前駆体・マスク・ボンディング）・ファブインフラ設備（排ガス・超純水・薬液供給） のトピックで関連する用語です。
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