MKS Instruments
ガス流量制御・圧力制御・RFパワー・プラズマ源など、半導体製造プロセスを支えるサブシステム機器の主要メーカー。Newport光学部門も保有。
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当サイトでの位置づけ
Semiraiの成膜・エッチングカテゴリでは、プロセスチャンバーのガス流量・圧力・RF電力を精密制御するサブシステムとして装置との接点が多く参照されます。
企業の強み
マスフローコントローラ（MFC）でグローバルリーダー
RF電力供給・圧力制御・真空計測の統合ソリューション
Newport光学・レーザー技術との融合製品群
主要製品・ソリューション
ガス制御機器
- •マスフローコントローラ
- •圧力コントローラ
RF・プラズマ機器
- •RFジェネレータ
- •マッチングネットワーク
計測・光学
- •Newport光学部品
- •レーザー光源
MKS Instrumentsの製品
関連装置カテゴリ
ファブインフラ（ガス・電源制御）
ファブインフラ設備は、半導体製造装置本体の外側で、工場（ファブ）全体の稼働を支える基盤設備群を指します。
メーカー 10 社RF電源・電源システムRF電源・電源システムは、プラズマを用いるエッチング・CVD（PECVD）・PVD（スパッタ）装置に高周波/直流電力を供給するサブシステムです。
メーカー 5 社ガス供給・流量制御（MFC）ガス供給・流量制御系は、プロセスガスや特殊材料ガスを決められた流量・圧力でチャンバへ届けるサブシステムです。
メーカー 8 社マスフローコントローラ（MFC）マスフローコントローラ（MFC）は、ガスの質量流量を測定しながら、内蔵の制御弁で設定値どおりに流量を保つ機器です。
メーカー 5 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、MKS Instrumentsを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
同じトピックの用語
ファブインフラ設備（排ガス・超純水・薬液供給）・プラズマチャンバー部品・消耗品・真空・ガス／薬液供給サブシステム のトピックで関連する用語です。
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ドライ真空ポンプとターボ分子ポンプの違い
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石英部品とセラミック部品の違い（装置内部材の比較）
半導体製造装置のチャンバー内部材は、高温・プラズマ・腐食性ガスという過酷な環境で、金属汚染を起こさずに機能しなければなりません。この要求に応えるのが石英ガラスと…
原子層エッチング（ALE）とプラズマエッチング（RIE）の違い
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