ヴィステック（Vistec Electron Beam）

電子ビーム（EB）マスク描画装置のドイツ発専業メーカー。フォトマスク製造向けの高精度EB描画装置を、研究開発から量産用途まで供給する。

ドイツ・装置メーカー・公式サイト ↗

当サイトでの位置づけ

Semirai のマスク製造装置カテゴリでは、電子ビームマスク描画装置のドイツ発専業メーカーとして位置づけられます。

企業の強み

EBマスク描画装置の専業メーカー

高精度パターン形成技術に強み

欧州発のマスク製造技術

主要製品・ソリューション

マスク製造装置

•電子ビームマスク描画装置

関連装置カテゴリ

マスク描画装置

マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。

メーカー 6 社電子ビーム露光

マスク製造装置（フォトマスク・レチクル製造装置）は、半導体露光工程で使われるフォトマスク（レチクル）を製造・検査・修正する装置群です。

メーカー 7 社

半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ヴィステック（Vistec Electron Beam）を含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

レチクル（フォトマスク）とは→フォトマスクとは→

同じトピックの用語

先端半導体材料（前駆体・マスク・ボンディング）のトピックで関連する用語です。

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比較・違いを学ぶ

ALDとCVDの違い（原子層成膜 vs 化学気相成膜）

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