AGC（旭硝子）

フォトマスクブランクスは、フォトマスク（レチクル）製造の基材となる精密ガラス基板です。

ペリクルは、フォトマスクのパターン面から数mm浮かせて張る薄い透明膜で、異物がパターン面へ直接付着するのを防ぐ防塵カバーです。

マスク製造装置（フォトマスク・レチクル製造装置）は、半導体露光工程で使われるフォトマスク（レチクル）を製造・検査・修正する装置群です。

フォトレジストは、露光工程でマスクの回路パターンをウェハ上に転写するために使用される感光性高分子材料です。

半導体材料は、製造プロセスの各工程で使用される化学物質・消耗材料の総称です。

特殊基板は、シリコンや化合物半導体以外の材料で作るウェハの総称で、サファイア・タンタル酸リチウム（LT）・ニオブ酸リチウム（LN）・水晶・ガラスなどが含まれます。