Air Products

産業ガス・特殊ガスの世界大手。半導体向けにはWF₆・NF₃・GeH₄・特殊エッチングガスなど、成膜・エッチング・クリーニングの全工程を支える。

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当サイトでの位置づけ

Semiraiの成膜・エッチングカテゴリでは、WF₆・NH₃・NF₃・GeH₄など半導体プロセスに不可欠な特殊ガスのグローバル供給元として参照されます。

企業の強み

半導体向け特殊ガスのグローバルトップサプライヤー

Fabオンサイト供給システムによる安定ガス供給

特殊ガス精製・分析・混合の一貫ソリューション

主要製品・ソリューション

エッチングガス

•NF₃
•F₂
•HF

成膜ガス

•WF₆
•GeH₄
•NH₃

クリーニングガス

•C₂F₆
•CF₄

Air Productsの製品

PRISM（オンサイト窒素発生装置）（バルクガス（N2/O2/Ar））

関連装置カテゴリ

半導体材料（特殊ガス）

半導体材料は、ウェハ・フォトレジスト・特殊ガス・CMPスラリー・封止樹脂・リードフレーム・ボンディングワイヤなど、半導体製造の各工程で使用される多様な材料群の総称です。

メーカー 10 社材料

半導体材料は、製造プロセスの各工程で使用される化学物質・消耗材料の総称です。

メーカー 12 社

半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、Air Productsを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

CVDとは→エッチングとは→

同じトピックの用語

先端半導体材料（前駆体・マスク・ボンディング）のトピックで関連する用語です。

フォトマスクとは→ALD装置（原子層堆積装置）とは→CVD（化学気相成長）とは→フォトレジストとは→EUVレジストとは→ダイボンダー 2とは→半導体材料とは→LTPS（低温ポリシリコン）とは→

同じトピックの企業

HOYA日本 AGC（旭硝子）日本 Entegris米国 Merck KGaA（半導体材料）ドイツ ASMPT香港 Besiオランダ

比較・違いを学ぶ

ALDとCVDの違い（原子層成膜 vs 化学気相成膜）

CVD（Chemical Vapor Deposition）は反応ガスを同時供給して連続的に成膜するのに対し、ALD（Atomic Layer Depositi…

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