COMPANY DATABASE

Air Products

産業ガス・特殊ガスの世界大手。半導体向けにはWF₆・NF₃・GeH₄・特殊エッチングガスなど、成膜・エッチング・クリーニングの全工程を支える。

🌐 米国材料公式サイト

当サイトでの位置づけ

Semiraiの成膜・エッチングカテゴリでは、WF₆・NH₃・NF₃・GeH₄など半導体プロセスに不可欠な特殊ガスのグローバル供給元として参照されます。

企業の強み

半導体向け特殊ガスのグローバルトップサプライヤー
Fabオンサイト供給システムによる安定ガス供給
特殊ガス精製・分析・混合の一貫ソリューション

主要製品・ソリューション

エッチングガス

  • NF₃
  • F₂
  • HF

成膜ガス

  • WF₆
  • GeH₄
  • NH₃

クリーニングガス

  • C₂F₆
  • CF₄

関連装置カテゴリ

半導体材料(特殊ガス)
材料

📊 半導体製造装置メーカーの世界シェア&カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、Air Productsを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

CVDとは →エッチングとは →

同じトピックの用語

先端半導体材料(前駆体・マスク・ボンディング) のトピックで関連する用語です。

フォトマスクとは →ALD(原子層堆積)とは →CVD(化学気相成長)とは →フォトレジストとは →EUVレジストとは →ダイボンダー 2とは →

同じトピックの企業

HOYA日本AGC(旭硝子)日本Entegris米国Merck KGaA(半導体材料)ドイツASMPT香港Besiオランダ

比較・違いを学ぶ

ALDとCVDの違い(原子層成膜 vs 化学気相成膜)
CVD(Chemical Vapor Deposition)は反応ガスを同時供給して連続的に成膜するのに対し、ALD(Atomic Layer Depositi
Air Products 公式サイトへ

FOR COMPANIES

貴社の情報をSemiraiに掲載しませんか?

無料プランからご利用いただけます。

掲載プランを見る →
← 企業一覧に戻る