エリオニクス

電子ビーム（EB）描画装置の専業メーカー。研究開発用途から微細加工向けまで、高分解能なEBリソグラフィ装置を国内外に供給する。

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当サイトでの位置づけ

Semirai の露光装置カテゴリでは、電子ビーム描画装置の専業メーカーとして、研究開発・微細パターン形成を支える立場にあります。

企業の強み

電子ビーム描画装置の専業メーカー

研究開発用途で豊富な導入実績

超微細パターン形成に対応する高分解能技術

主要製品・ソリューション

露光装置

•電子ビーム描画装置

エリオニクスの製品

ELS-BODEN シリーズ（電子ビーム直接描画装置）

関連装置カテゴリ

電子ビーム描画装置

マスク描画装置（EB描画装置）は、電子線（EB：Electron Beam）を使用してフォトマスクブランク上に回路パターンを高精度で描画する装置です。

メーカー 6 社ナノインプリント・微細描画

ナノインプリントリソグラフィ（NIL：Nanoimprint Lithography）は、マスク（テンプレート）のナノ構造パターンを紫外線硬化樹脂などの材料に直接押し付けてパターンを転写するリソグラフィ技術です。

メーカー 3 社

半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ

ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、エリオニクスを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。

関連用語

レチクル（フォトマスク）とは→フォトマスクとは→露光（リソグラフィ）とは→

同じトピックの用語

先端半導体材料（前駆体・マスク・ボンディング）のトピックで関連する用語です。

ALD装置（原子層堆積装置）とは→CVD（化学気相成長）とは→フォトレジストとは→EUVレジストとは→ダイボンダー 2とは→半導体材料とは→LTPS（低温ポリシリコン）とは→窒化アルミニウム（AlN）とは→

同じトピックの企業

HOYA日本 AGC（旭硝子）日本 Air Products米国 Entegris米国 Merck KGaA（半導体材料）ドイツ ASMPT香港

比較・違いを学ぶ

ALDとCVDの違い（原子層成膜 vs 化学気相成膜）

CVD（Chemical Vapor Deposition）は反応ガスを同時供給して連続的に成膜するのに対し、ALD（Atomic Layer Depositi…

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