IC 用フォトマスク／FPD 用フォトマスク
主流ノードから先端ノードまでの IC 用フォトマスクと、AMOLED を含む FPD 用フォトマスクを世界 11 拠点で製造する。
IC 用フォトマスク／FPD 用フォトマスクとは
Photronics は、IC（集積回路）用とフラットパネルディスプレイ（FPD）用のフォトマスクを作る米国のメーカーです。フォトマスクは露光工程で回路パターンを転写するための原版です。
IC 用では主流ノードから先端ノードまで、FPD 用では AMOLED を含む大型パネル向けのマスクを手がけます。世界 11 か所の製造拠点を持ちます。
主な特長
- •IC 用と FPD 用の両方を製造
- •主流ノードから先端ノードまで対応
- •世界 11 拠点で生産
主な仕様
| 露光方式 | DUV・EUV（IC）／FPD 用 |
|---|---|
| 世代 | 主流ノード ～ 5nm 級 |
| 主要用途 | IC・フラットパネルディスプレイ |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の製品が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 大日本印刷（DNP）EUV フォトマスク（2nm 世代以降） | PhotronicsIC 用フォトマスク／FPD 用フォトマスク |
|---|---|---|
| 露光方式 | EUV（高 NA 対応を含む） | DUV・EUV（IC）／FPD 用 |
| 世代 | 2nm 以降（2027年度量産予定） | 主流ノード ～ 5nm 級 |
| 主要用途 | 先端ロジック半導体 | IC・フラットパネルディスプレイ |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ロジック・メモリなどの IC 製造
- •AMOLED を含む FPD 製造
掲載カテゴリ
IC 用フォトマスク／FPD 用フォトマスクは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Photronics
米国コネチカット州に本社を置くフォトマスクメーカー。半導体向けと FPD 向けのフォトマスクを製造し、米国・欧州・台湾・韓国・中国に製造拠点を持つ。台湾では大日本印刷との合弁でも事業を行う。
フォトマスクのほかの製品
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06