プロセス薬液メーカー8Process Chemicals

プロセス薬液は、レジストの現像、不要膜の剥離、表面の洗浄といった湿式工程で使われる液体材料のカテゴリです。現像液がパターンの寸法を、剥離液が残渣の有無を、洗浄薬液が表面の清浄度を決めるため、装置の性能が同じでも薬液の品質が変われば結果は変わります。要求されるのは組成の正確さだけでなく純度で、金属不純物はppt級、パーティクルは0.1μm以下の粒子数で管理されます。半導体向け薬液は一般工業用と桁違いの管理水準にあり、容器・配管・充填工程まで含めてサプライチェーン全体で品質が作られます。

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重要ポイント

現像・剥離・洗浄など湿式工程の結果を直接決める液体材料
金属不純物はppt級、パーティクルは0.1μm以下で管理される
装置性能が同じでも薬液品質が変われば結果が変わる
容器・配管・充填まで含めたサプライチェーン全体で品質が決まる

メーカー

8社の主要メーカー

東京応化工業(TOK)日本

フォトレジスト専業の老舗メーカー。KrF〜ArF〜EUVと各世代のレジスト開発を継続し、現像液・洗浄剤などのプロセス薬品も手がける。

  • フォトレジスト専業メーカーとして70年超の実績
  • KrF〜EUV全世代対応のレジスト開発力
  • 現像液・剥離液・洗浄液の周辺プロセス材料も提供
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関東化学(Kanto Chemical)日本

超高純度試薬・プロセス化学品の専業メーカー。半導体ウェハ洗浄薬液(SPM・SC1・SC2・DHF等)・CMP薬液・フォトレジスト剥離液を高純度で供給。電子グレード薬液で日本の半導体製造の基盤を支える老舗企業。

  • 電子工業用高純度薬品で業界標準の品質
  • 洗浄・エッチング・CMP全工程の薬品ラインナップ
  • 半導体・FPD・太陽電池向け化学品の総合供給
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ステラケミファ日本

フッ素化学を専門とする半導体材料メーカー。超高純度フッ化水素酸(HF)・フッ化アンモニウムなどの半導体ウェーハ洗浄・エッチング薬液で世界トップシェアを持つ。

  • 超高純度フッ化水素酸(HF)で世界首位。韓国・台湾・中国への輸出が主力
  • Li電池電解質(LiPF6)でも世界トップシェアを持つフッ素専業企業
  • 日本の輸出管理強化(2019年)で注目を集めた重要半導体材料サプライヤー
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三菱ガス化学日本

半導体用過酸化水素水・特殊化学品を手掛ける国内化学メーカー。洗浄工程で使われる高純度薬液を中心に、半導体材料事業を展開する。

  • 高純度薬液で国内大手
  • 洗浄工程向け化学品に強み
  • 幅広い特殊化学品ポートフォリオ
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トクヤマ(Tokuyama)日本

多結晶シリコン(ポリシリコン)・電子工業用シリカ・高純度HClガスの日本有数のサプライヤー。半導体・太陽電池製造に不可欠なポリシリコンの世界上位メーカーであり、日本国内の一貫生産体制を持つ。

  • ポリシリコン生産量で世界上位(年産数千トン)
  • 電子工業用シリカで高い市場シェア
  • 半導体・太陽電池の両市場への供給実績
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住友化学日本

総合化学メーカー。半導体材料分野ではフォトレジスト(ArF・EUV)・偏光フィルム・有機EL材料で世界的存在感を持つ。特にEUVレジスト開発で日本材料メーカーとして重要な役割を担う。

  • ArF液浸・EUV向けフォトレジスト(化学増幅型CAR)の技術開発力
  • 光酸発生剤(PAG)・レジストポリマーの高純度合成技術
  • 偏光フィルム(液晶パネル用)でグローバルシェアを持つ多角的素材基盤
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レゾナック(旧昭和電工)日本

2023年に昭和電工と日立化成が統合して発足した半導体材料の総合メーカー。CMPスラリー・半導体封止材・エピタキシャルウェーハ・SiCエピウェーハを主力とする。

  • CMPスラリー(High-Purity Colloidal Silica)で世界上位シェア
  • SiCエピタキシャルウェーハで国内最大手。パワー半導体市場の拡大を追い風に
  • 半導体封止材(EMC)でも高いシェアを持ち、材料の川上から川下まで垂直統合
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DuPont(半導体材料)米国

化学大手DuPontの電子材料部門。Low-k絶縁材・銅配線CMP材料・ArFフォトレジスト・半導体実装向け接着剤など先端材料を幅広く展開。

  • Low-k誘電体(Black Diamond)でインターコネクト材料のパイオニア
  • 銅CMPスラリー・パッドの主要サプライヤー
  • 高密度実装向け接着フィルム・封止材の技術力
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