プロセス薬液メーカー8社Process Chemicals
プロセス薬液は、レジストの現像、不要膜の剥離、表面の洗浄といった湿式工程で使われる液体材料のカテゴリです。現像液がパターンの寸法を、剥離液が残渣の有無を、洗浄薬液が表面の清浄度を決めるため、装置の性能が同じでも薬液の品質が変われば結果は変わります。要求されるのは組成の正確さだけでなく純度で、金属不純物はppt級、パーティクルは0.1μm以下の粒子数で管理されます。半導体向け薬液は一般工業用と桁違いの管理水準にあり、容器・配管・充填工程まで含めてサプライチェーン全体で品質が作られます。
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現像液・リンス液は、露光したレジストの可溶部を溶かし出してパターンを顕在化させる薬液と、その後に洗い流す純水系の薬液です。
メーカー 4 社電子工業用薬液(高純度薬品)電子工業用薬液は、洗浄・エッチング・表面処理に使う高純度の酸・アルカリ・過酸化水素の総称です。
メーカー 6 社ポリイミド樹脂ポリイミド樹脂は、耐熱性・絶縁性・機械強度に優れた高分子材料で、半導体では表面保護膜(パッシベーション)や再配線層の層間絶縁膜として使われます。
メーカー 5 社剥離液・側壁除去液剥離液・側壁除去液は、役目を終えたレジストや、エッチング時に側壁へ堆積した反応生成物(ポリマー残渣)を溶かして取り除く薬液です。
メーカー 4 社重要ポイント
メーカー
8社の主要メーカー
フォトレジスト専業の老舗メーカー。KrF〜ArF〜EUVと各世代のレジスト開発を継続し、現像液・洗浄剤などのプロセス薬品も手がける。
- •フォトレジスト専業メーカーとして70年超の実績
- •KrF〜EUV全世代対応のレジスト開発力
- •現像液・剥離液・洗浄液の周辺プロセス材料も提供
超高純度試薬・プロセス化学品の専業メーカー。半導体ウェハ洗浄薬液(SPM・SC1・SC2・DHF等)・CMP薬液・フォトレジスト剥離液を高純度で供給。電子グレード薬液で日本の半導体製造の基盤を支える老舗企業。
- •電子工業用高純度薬品で業界標準の品質
- •洗浄・エッチング・CMP全工程の薬品ラインナップ
- •半導体・FPD・太陽電池向け化学品の総合供給
フッ素化学を専門とする半導体材料メーカー。超高純度フッ化水素酸(HF)・フッ化アンモニウムなどの半導体ウェーハ洗浄・エッチング薬液で世界トップシェアを持つ。
- •超高純度フッ化水素酸(HF)で世界首位。韓国・台湾・中国への輸出が主力
- •Li電池電解質(LiPF6)でも世界トップシェアを持つフッ素専業企業
- •日本の輸出管理強化(2019年)で注目を集めた重要半導体材料サプライヤー
半導体用過酸化水素水・特殊化学品を手掛ける国内化学メーカー。洗浄工程で使われる高純度薬液を中心に、半導体材料事業を展開する。
- •高純度薬液で国内大手
- •洗浄工程向け化学品に強み
- •幅広い特殊化学品ポートフォリオ
多結晶シリコン(ポリシリコン)・電子工業用シリカ・高純度HClガスの日本有数のサプライヤー。半導体・太陽電池製造に不可欠なポリシリコンの世界上位メーカーであり、日本国内の一貫生産体制を持つ。
- •ポリシリコン生産量で世界上位(年産数千トン)
- •電子工業用シリカで高い市場シェア
- •半導体・太陽電池の両市場への供給実績
総合化学メーカー。半導体材料分野ではフォトレジスト(ArF・EUV)・偏光フィルム・有機EL材料で世界的存在感を持つ。特にEUVレジスト開発で日本材料メーカーとして重要な役割を担う。
- •ArF液浸・EUV向けフォトレジスト(化学増幅型CAR)の技術開発力
- •光酸発生剤(PAG)・レジストポリマーの高純度合成技術
- •偏光フィルム(液晶パネル用)でグローバルシェアを持つ多角的素材基盤
2023年に昭和電工と日立化成が統合して発足した半導体材料の総合メーカー。CMPスラリー・半導体封止材・エピタキシャルウェーハ・SiCエピウェーハを主力とする。
- •CMPスラリー(High-Purity Colloidal Silica)で世界上位シェア
- •SiCエピタキシャルウェーハで国内最大手。パワー半導体市場の拡大を追い風に
- •半導体封止材(EMC)でも高いシェアを持ち、材料の川上から川下まで垂直統合
化学大手DuPontの電子材料部門。Low-k絶縁材・銅配線CMP材料・ArFフォトレジスト・半導体実装向け接着剤など先端材料を幅広く展開。
- •Low-k誘電体(Black Diamond)でインターコネクト材料のパイオニア
- •銅CMPスラリー・パッドの主要サプライヤー
- •高密度実装向け接着フィルム・封止材の技術力
関連カテゴリ
半導体材料は、製造プロセスの各工程で使用される化学物質・消耗材料の総称です。
メーカー 12 社フォトレジストフォトレジストは、露光工程でマスクの回路パターンをウェハ上に転写するために使用される感光性高分子材料です。
メーカー 6 社洗浄装置洗浄装置は、半導体製造プロセスにおいてウェハ表面のパーティクル(微粒子)、金属不純物、有機物、自然酸化膜などの汚染物質を除去する最も頻繁に使用される重要な前工程装置です。
メーカー 6 社薬液供給システム薬液供給システム(Chemical Delivery System)は、ウェハ洗浄・エッチング・CMP・フォトレジスト塗布など前工程の各装置に、高純度薬液(HF・硫酸・SC-1/SC-2洗浄液・現像液など)を精密に計量・混合して供給するファブインフラ設備です。
メーカー 5 社