EUV フォトマスク（2nm 世代以降）
DNP は 2024年に 2nm 世代以降のロジック向け EUV フォトマスクで必要な微細パターンの解像に成功し、高 NA 対応マスクの評価品提供も始めた。
EUV フォトマスクとは
DNP の EUV フォトマスクは、EUV 露光で回路パターンをウェハに転写するための原版です。DNP は 2nm 世代以降のロジック半導体に必要な微細パターンの解像に成功したと 2024年12月に発表しました。
線幅 17nm のライン＆スペースを解像し、High-NA EUV 露光に対応するフォトマスクの基本評価も済ませています。2nm 世代向けは 2027年度の量産供給を目指しています。
開発にはベルギーの研究機関 imec との協業も活用しています。
主な特長
- •2nm 世代以降に必要な微細パターンを解像
- •High-NA EUV 向けマスクの基本評価を完了
- •2027年度の量産供給を目標
主な仕様
| 露光方式 | EUV（高 NA 対応を含む） |
|---|---|
| 世代 | 2nm 以降（2027年度量産予定） |
| 主要用途 | 先端ロジック半導体 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の製品が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 大日本印刷（DNP）EUV フォトマスク（2nm 世代以降） | PhotronicsIC 用フォトマスク／FPD 用フォトマスク |
|---|---|---|
| 露光方式 | EUV（高 NA 対応を含む） | DUV・EUV（IC）／FPD 用 |
| 世代 | 2nm 以降（2027年度量産予定） | 主流ノード ～ 5nm 級 |
| 主要用途 | 先端ロジック半導体 | IC・フラットパネルディスプレイ |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •2nm 世代以降の先端ロジック
- •High-NA EUV 露光
掲載カテゴリ
EUV フォトマスクは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
大日本印刷（DNP）
フォトマスクの国内大手メーカー。半導体・ディスプレイ向けフォトマスクを中心に、印刷技術を応用した精密加工・材料事業を幅広く展開する。
フォトマスクのほかの製品
大日本印刷（DNP）のほかの製品
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06