SEMICONDUCTOR EQUIPMENT
フォトレジストメーカー6社
フォトレジストは、露光工程でマスクの回路パターンをウェハ上に転写するために使用される感光性高分子材料です。露光光の当たった部分が化学変化を起こし、現像液で選択的に溶解されることで微細パターンを形成します。露光光源(i線・KrF・ArF・EUV)ごとに専用のレジストが必要で、特にEUV用レジストは感度・解像度・ラインエッジラフネスの同時最適化が極めて難しく、先端半導体量産の技術的ボトルネックとなる重要材料です。JSR、信越化学、東京応化など日本メーカーが世界シェアの大半を占めます。
メーカー 6 社関連カテゴリ 9 件
主要特徴
露光光を受けて化学変化を起こす感光性高分子材料
光源(i線・KrF・ArF・EUV)ごとに専用レジストが必要
EUVレジストは感度・解像度・LERの同時最適化が最大の課題
日本メーカー(JSR・信越化学・東京応化・富士フイルム)が世界シェアの大半を保有
微細パターン形成の品質を決定する先端プロセスの中核材料
よくある質問
メーカー
6社の主要メーカー
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関連用語
比較・違いを学ぶ
EUV露光装置とDUV露光装置の違い
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