当サイトでの位置づけ
Semirai のマスク装置カテゴリでは、フォトマスクの欠陥をレビューし修正する工程を担う国内メーカーとして位置づけられます。マスク検査で見つかった欠陥をどう処理するかの出口にあたります。
企業の強み
電子ビーム光学系の自社設計
マスク欠陥のレビューと修正を担う装置群
測長SEMによる寸法計測にも対応
主要製品・ソリューション
マスク検査・修正
- •マスク欠陥レビューSEM
- •マスク欠陥修正装置
計測装置
- •測長SEM（CD-SEM）
関連装置カテゴリ
マスク欠陥修正装置
マスク修正装置は、製造後のフォトマスク（レチクル）に存在する欠陥を原子・ナノメートルレベルで除去・補修する装置です。
メーカー 3 社マスク検査装置マスク検査装置（Mask Inspection）は、フォトリソグラフィで使用するフォトマスク・レチクルの欠陥・汚染を検出するシステムです。
メーカー 6 社CD-SEM（寸法計測）CD-SEM（Critical Dimension Scanning Electron Microscope）は、ナノメートル精度でリソグラフィ・エッチング後のパターン線幅（CD）を非破壊計測する装置です。
メーカー 4 社マスク製造装置マスク製造装置（フォトマスク・レチクル製造装置）は、半導体露光工程で使われるフォトマスク（レチクル）を製造・検査・修正する装置群です。
メーカー 7 社半導体製造装置メーカーの世界シェア＆カオスマップ
ASML・Applied Materials・TEL・Lam Research・KLAなど、ホロンを含む主要メーカーの工程別シェアを図解で比較。
関連用語
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